[发明专利]一种用于正负离子反应研究的质谱仪系统

权利要求书

1.一种用于正负离子反应研究的质谱仪系统；其特征在于：包括产生正离子的第一离子源（1）、第一离子光学系统（10）、产生负离子的第二离子源（2）、第二离子光学系统（20）、同时存储正离子和负离子的离子阱（3）、与所述离子阱（3）连接的第一工作电源（30）、可用于检测反应产物的飞行时间质谱仪（4）；从所述第一离子源（1）产生的正离子经所述第一离子光学系统（10）进入所述离子阱（3），同时从所述第二离子源（2）产生的负离子经所述第二离子光学系统（20）进入所述离子阱（3）中，在所述离子阱（3）中正离子和负离子碰撞化学反应后被第一工作电源（30）产生的脉冲电压逐出所述离子阱（3）进入飞行时间质谱仪（4）作质量分析。

2.根据权利要求1所述的用于正负离子反应研究的质谱仪系统，其特征在于：所述飞行时间质谱仪（4）中有离子加速区（40）、离子探测器（5）、与所述离子探测器（5）连接的第二工作电源（50）；反应产物被逐出所述离子阱（3）后经所述离子加速区（40）到达所述离子探测器（5）。

3.根据权利要求2所述的用于正负离子反应研究的质谱仪系统，其特征在于：在所述第一离子源（1）和所述第一离子光学系统（10）之间连接有第一四极杆质量分析器（11）；在所述第二离子源（2）和所述第二离子光学系统（20）之间连接有第二四极杆质量分析器（21）。

4.根据权利要求2所述的用于正负离子反应研究的质谱仪系统，其特征在于：在所述第一离子源（1）和所述第一离子光学系统（10）之间连接有第一四极杆质量分析器（11）；所述第二离子源（2）是电子束源，所述第一离子源（1）是电子轰击离子源或电喷雾电离离子源或基质辅助的激光脱附电离离子源。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的用于正负离子反应研究的质谱仪系统，其特征在于：所述第一离子源（1）是电子轰击电离离子源或电喷雾电离离子源或光电离离子源；所述第二离子源（2）是化学电离离子源或电喷雾电离离子源。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的用于正负离子反应研究的质谱仪系统，其特征在于：所述飞行时间质谱仪（4）是直线型或反射式。