[发明专利]一种掩膜板、基板及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板、基板及显示装置。

背景技术

液晶显示器包括阵列基板、彩膜基板以及设置在阵列基板和彩膜基板之间的液晶。其中，如图1所示，彩膜基板包括设置在衬底基板1上的黑矩阵膜层以及彩色膜层（其中，所示黑矩阵膜层包括黑矩阵2，所示彩色膜层包括R(红)、G(绿)、B(蓝)三种不同颜色的彩色图案3。

现有的彩膜基板的制作方法中，首先在衬底基板上形成黑矩阵膜层，再在所述衬底基板上经过涂布薄膜、曝光、显影、刻蚀以及剥离等工序形成所述彩色膜层。其中，彩色膜层是通过掩膜板4进行曝光形成的，掩膜板4包括透光区401和不透光区402。彩膜基板上形成的彩色膜层由于衬底基板上形成有黑矩阵，则形成的彩色图案3如图1所述，其上表面不平整，即出现角段差，会造成配向不良，影响显示效果。

发明内容

本发明的实施例提供一种掩膜板、基板及其制作方法，通过所述掩膜板形成的膜层，其固化后上表面为平面，没有角段差。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例提供了一种掩膜板，包括全透光区、部分透光区和不透光区，所述不透光区将掩膜板分割成多个阵列排布的曝光单元，每一所述曝光单元包括全透光区和部分透光区，所述部分透光区设置在所述透光区和不透光区之间，其中所述掩膜板的曝光单元对应形成薄膜的图案单元，且所述曝光单元的全透光区对应形成的薄膜的高度大于所述部分透光区对应形成的薄膜的高度。

可选的，所述掩膜板曝光单元的各部分透光区的宽度为2-15μm。

可选的，所述掩膜板曝光单元的各全透光区的宽度为15-120μm。

本发明实施例提供了一种基板，包括：透明基板以及设置在所述透明基板上的第一膜层，其中，所述第一膜层通过本发明提供的任一所述的掩膜板形成，所述第一膜层包括多个阵列排布的图案单元，且通过曝光直接形成的图案单元中对应掩膜板全透光区的高度大于对应部分透光区的高度。

可选的，所述第一膜层为彩色膜层，所述图案单元为像素单元，所述图案单元对应掩膜板全透光区为基板透光区，所述图案单元对应掩膜板部分透光区为基板不透光区。

可选的，所述彩色膜层像素单元中透光部分的高度与不透光部分的高度差为0.4-1μm。

可选的，所述彩色膜层像素单元中各透光部分的厚度为1.5-3.5μm。

可选的，所述彩色膜层像素单元中各不透光部分的厚度为1.1-2.5μm。

可选的，所述彩色膜层像素单元中各透光部分的宽度为15-120μm。

可选的，所述彩色膜层像素单元中各不透光部分的宽度为2-15μm。

可选的，所述基板为阵列基板或彩膜基板。

本发明实施例提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的任一所述的基板。

本发明实施例提供的一种掩膜板、基板及显示装置，所述掩膜的曝光单元对应形成的薄膜的图案单元，且所述曝光单元的全透光区对应形成的薄膜的高度大于所述部分透光区对应形成的薄膜的高度，则形成的薄膜经固化后其上表面没有角段差（进而可以提升显示效果。

附图说明

图1为现有技术中利用掩膜板形成彩色膜层的示意图；

图2为本发明实施例提供的一种掩膜板；

图3为利用图2所示的掩膜板形成彩色膜层的示意图；

图4为本发明实施例提供的彩膜基板示意图；

附图标记：

1-透明基板；2-黑矩阵；3-彩色图案；4-掩膜板；401-全透光区；402-不透光区；403-部分透光区；5-彩膜基板。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。