[发明专利]一种二硫化钼-硒化镉量子点混合场效应光晶体管及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201310580317.2 申请日: 2013-11-19
公开(公告)号: CN103681837A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 林时胜;李文渊;张金石 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L21/335;H01L29/06
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 韩介梅
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 二硫化钼 硒化镉 量子 混合 场效应 晶体管 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种二硫化钼-硒化镉量子点混合场效应光晶体管,其特征在于自下而上依次有Si层(1)和SiO2层(2)的Si/SiO2复合晶片、n层硫化钼层(3),n=1-4、两块在同一水平面上彼此相隔的金电极(4)、在两块金电极(4)之间有CdSe量子点层(5),CdSe量子点层(5)中的CdSe量子点的直径为3-8nm。

2.根据权利要求1所述的二硫化钼-硒化镉量子点混合场效应光晶体管场效应光晶体管,其特征在于Si/SiO2复合晶片的SiO2层(2)的厚度为30-300nm,Si层(1)厚度为200μm。

3.根据权利要求1所述的二硫化钼-硒化镉量子点混合场效应光晶体管,其特征在于CdSe量子点层(5)的厚度为10-600nm。

4.制造权利要求1所述的二硫化钼-硒化镉量子点混合场效应光晶体管场效应光晶体管的方法,其特征在于包括如下步骤:

1)使用微机械力方法,用胶带从硫化钼晶体上剥离n层二硫化钼,n=1-4,再将二硫化钼黏贴到清洗干净的Si/SiO2复合晶片的SiO2层上;

2)在二硫化钼层上旋涂质量浓度1%-10%的聚甲基丙烯酸甲酯,采用电子束曝光法在聚甲基丙烯酸甲酯涂层上刻蚀出金电极图形;

3)采用电子束蒸发方法,在刻蚀的金电极图形上依次沉积5nmNi和20-100nmAu,作为场效应光晶体管的源极和漏极;

4)将丙烯酸羟丙酯充分溶解于氧化三辛基膦中,得到氧化三辛基膦丙烯酸羟丙酯混合溶液,混合溶液中丙烯酸羟丙酯的质量浓度为8%;将Se、Cd(CH3)2和三丁基膦按质量比1:2:38混合,得到储备液,将0.5-2ml储备液倒入加热至360℃的2-4g上述氧化三辛基膦丙烯酸羟丙酯混合溶液中,保持360℃温度不变,反应0.1-1小时,自然冷却至室温,得到CdSe量子点溶液;

5)采用旋涂的方法将步骤4)制得的CdSe量子点溶液涂覆到二块金电极之间的二硫化钼层上,得到二硫化钼-硒化镉量子点混合场效应光晶体管。

5.根据权利要求4所述的二硫化钼-硒化镉量子点混合场效应光晶体管的制造方法,其特征在于所述的清洗Si/SiO2复合晶片是先依次用去离子水、丙酮和异丙醇清洗,然后再用O2:Ar=1:1的混合等离子气体清洗。

6.根据权利要求1所述的二硫化钼-硒化镉量子点混合场效应光晶体管的制造方法,其特征在于步骤2)的电子束曝光刻蚀的曝光时间为1-2s、显影时间40s-1min。

7.根据权利要求1所述的二硫化钼-硒化镉量子点混合场效应光晶体管的制造方法,其特征在于步骤3)的电子束蒸发过程中,气压控制在5×10-3Pa以下。

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