[发明专利]彩膜基板及其制备方法

权利要求书

1.一种彩膜基板的制备方法，包括在一衬底基板上形成黑矩阵、多个带通滤光层和多个隔垫物的步骤，所述黑矩阵限定多个亚像素区域，所述带通滤光层位于对应的亚像素区域内，透射特定颜色的光线，所述隔垫物位于黑矩阵所在的区域内，其特征在于，

形成透射特定颜色光线的带通滤光层的步骤包括：

在衬底基板上形成透射所述特定颜色光线的带通滤光膜层；

图形化所述带通滤光膜层，形成位于对应亚像素区域的带通滤光层图案和对应黑矩阵所在区域的亚滤光层图案，并在所述亚滤光层的上表面形成多个凸起结构，所述凸起结构对应隔垫物所在的区域；

透射不同颜色光线的多个亚滤光层叠层形成所述黑矩阵；透射不同颜色光线的多个凸起结构叠层形成所述隔垫物。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，每个隔垫物中，靠近衬底基板一侧的凸起结构位于远离衬底基板一侧的凸起结构所在的区域内。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，每个隔垫物中，远离衬底基板一侧的凸起结构覆盖靠近衬底基板一侧的凸起结构。

4.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所述图形化所述带通滤光膜层，形成位于对应亚像素区域的带通滤光层图案和对应黑矩阵所在区域的亚滤光层图案，并在所述亚滤光层的上表面形成多个凸起结构，所述凸起结构对应隔垫物所在的区域的步骤包括：

对所述带通滤光膜层进行一次构图工艺，形成位于对应亚像素区域的带通滤光层图案和对应黑矩阵所在区域的亚滤光层图案，并在所述亚滤光层的上表面形成多个凸起结构，所述凸起结构对应隔垫物所在的区域。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述对所述带通滤光膜层进行一次构图工艺，形成位于对应亚像素区域的带通滤光层图案和对应黑矩阵所在区域的亚滤光层图案，并在所述亚滤光层的上表面形成多个凸起结构，所述凸起结构对应隔垫物所在的区域的步骤包括：

采用灰阶掩膜版或半灰阶掩膜版对带通滤光膜层进行曝光，显影，形成具有第一厚度的带通滤光膜层、具有第二厚度的带通滤光膜层、具有第三厚度的带通滤光膜层和带通滤光膜层不保留区，其中，所述第一厚度大于第二厚度，所述第三厚度大于所述第二厚度，所述具有第一厚度的带通滤光膜层形成位于对应亚像素区域的带通滤光层图案，所述具有第二厚度的带通滤光膜层形成对应黑矩阵所在区域的亚滤光层图案，所述具有第三厚度的带通滤光膜层高出所述具有第二厚度的带通滤光膜层的部分形成对应隔垫物所在区域的凸起结构图案，带通滤光膜层不保留区对应其他区域。

6.一种彩膜基板，包括衬底基板和形成在衬底基板上的黑矩阵和多个隔垫物，所述黑矩阵限定多个亚像素区域，所述隔垫物位于黑矩阵所在的区域内，其特征在于，还包括多个图形化的带通滤光膜层，所述带通滤光膜层透射特定颜色的光线；

透射特定颜色光线的带通滤光膜层包括：

带通滤光层，位于对应的亚像素区域内；

亚滤光层，对应黑矩阵所在区域；

凸起结构，形成在亚滤光层的上表面；

所述黑矩阵由透射不同颜色光线的多个亚滤光层叠层形成；所述隔垫物由透射不同颜色光线的凸起结构叠层形成。

7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，每个隔垫物中，靠近衬底基板一侧的凸起结构位于远离衬底基板一侧的凸起结构所在的区域内。

8.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，每个隔垫物中，远离衬底基板一侧的凸起结构的覆盖靠近衬底基板一侧的凸起结构。

9.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括三个所述带通滤光膜层；

每个带通滤光膜层中，所述亚滤光层的厚度小于所述带通滤光层的厚度。

10.根据权利要求9所述的彩膜基板，其特征在于，每个带通滤光膜层中，所述亚滤光层的厚度为所述带通滤光层的厚度的1/5至1/2。

11.根据权利要求9所述的彩膜基板，其特征在于，每个带通滤光膜层中，所述亚滤光层的厚度为所述带通滤光层的厚度的1/3。

12.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔垫物的高度为2.1-3.9μm。