[发明专利]一种曝光机的前段机架结构

说明书

技术领域

本发明涉及一种机架结构，尤其涉及一种曝光机的前段机架结构。

背景技术

曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备，70 年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业，是在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物（通常称为电子抗蚀剂或光刻胶）进行曝光。

曝光机的前段空间为进行曝光操作的空间，通常需要不间断的连续进行曝光操作，因此对整个曝光机而言，曝光机的前段机架结构要有更加优秀的结构强度以及稳定性，同时需要有合理的布局节省空间，显然现有技术中一般的机架结构并不能满足曝光机的需求。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的问题，提供一种曝光机的前段机架结构，其结构强度较高，稳定性较好，布局合理，可满足曝光机的需求。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现：

一种曝光机的前段机架结构，包括矩形的底座，所述底座包括底部框架及固定连接在所述底部框架上的底板，所述底部框架上设有互相连接的主机机架及工作机架，所述主机机架与所述工作机架之间设有隔板，所述工作机架的高度为所述主机机架高度的一半，所述主架机架包括固定安装在所述底部框架上的四个长立柱，相邻长立柱的顶端分别通过上横梁固定连接，所述长立柱的中间高度位置设有三个中间横梁形成位于所述底座短边侧的开口，所述工作机架包括固接在所述底部框架上的四个短立柱，其中两个短立柱与所述长立柱固定贴合，相邻短立柱的顶端分别通过连接梁固定连接，位于所述底座长边两侧的连接梁上分别固定设有扶手，所述连接梁的下方位于所述短立柱之间固定连接有封板，所述封板与所述底板之间夹持固定一电器安装板。

进一步地，所述底板位于所述主机机架的部分具有安装槽。

进一步地，所述底座的长边长度为所述底座短边长度的二倍。

进一步地，所述工作机架与所述主机机架的长宽相等。

本发明所述的一种曝光机的前段机架结构，其有益效果是：结构强度较高，稳定性较好，布局合理，满足了曝光机的需求。

附图说明

图1为本发明所述一种曝光机的前段机架结构第一视角的立体图；

图2为本发明所述一种曝光机的前段机架结构第二视角的立体图。

具体实施方式

下面根据附图和实施例对本发明作进一步详细说明。

如图1及图2所示，本发明实施例所述的一种曝光机的前段机架结构，包括矩形的底座10，底座10包括底部框架11及固定连接在底部框架11上的底板12，底部框架11上设有互相连接的主机机架20及工作机架30，主机机架20与工作机架30之间设有隔板40，工作机架30的高度为主机机架高度20的一半，主架机架20包括固定安装在底部框架11上的四个长立柱21，相邻长立柱21的顶端分别通过上横梁22固定连接，长立柱21的中间高度位置设有三个中间横梁23形成位于底座10短边10a侧的开口，工作机架30包括固接在底部框架11上的四个短立柱31，其中两个短立柱31与长立柱21固定贴合，相邻短立柱31的顶端分别通过连接梁32固定连接，位于底座10长边10b两侧的连接梁32上分别固定设有扶手33，连接梁32的下方位于短立柱31之间固定连接有封板34，封板34与底板12之间夹持固定一电器安装板35。

底板12位于主机机架30的部分具有安装槽13。底座10的长边10b长度为底座10短边10a长度的二倍。工作机架30与主机机架20的长宽相等。

以上所述仅为说明本发明的实施方式，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。