[发明专利]平面双闪耀光栅的制作方法

权利要求书

1.一种平面双闪耀光栅的制作方法，包括A闪耀区（4）和B闪耀区（5）光栅的刻划，其特征在于，具体步骤是：

1）A闪耀区（4）光栅的刻划

a、在清洁除尘后的平面玻璃基底（3）上先后镀上一层铬膜和一层铝膜；

b、刻划机构的旋转圆盘（6）的竖直方向的刀桥（8）上安装两把刻刀，每把刻刀研磨的刀刃角度均与设计所需的刀刃角度一致；

c、将平面玻璃基底（3）放置在以丝杠为牵引机构的横向分度工作平台上，启动电机进行预刻划，用电子显微镜观察预刻划的槽型，根据槽型调节刻刀的刀角倾度和后角高度获得所需槽型，然后固定好基底，并在其表面滴上硅油；

d、工作平台带动光栅基底作进给量为一个光栅常数d的横向分度运动，刀桥带动第一刻刀（1）往复作竖直方向上的刻划运动，如此周而复始，完成A闪耀区（4）光栅的刻划；

2）B闪耀区（5）光栅的刻划

a、A闪耀区（4）光栅的刻划完成后，停止电机，旋转装有两把刻刀的旋转圆盘（6），把第二刻刀（2）旋转到第二刻刀（1）的位置，并固定好；

b、启动电机，工作平台继续带动光栅基底作进给量为一个光栅常数d的横向分度运动，刀桥（8）带动第二刻刀（2）往复作竖直方向上的刻划运动，直到完成B闪耀区（5）光栅的刻划；

3）完成A闪耀区（4）和B闪耀区（5）光栅的刻划后取出光栅清洗残余的硅油，制得双闪耀光栅。

2.根据权利要求1所描的平面双闪耀光栅的制作方法，其特征在于，在A闪耀区（4）光栅的刻划的步骤a中，所述平面玻璃基底（3）尺寸为100mm×50mm，铬膜厚度为100nm，铝膜厚度为1um。

3.根据权利要求1所描述的平面双闪耀光栅的制作方法，其特征在于：上述步骤中在所用的旋转圆盘（6）上制作两个在同一直线上的刀架（7），并在沿着刀架（7）中垂线方向的旋转圆盘（6）边缘各制作一个旋转时精密固定刻刀的位置的卡口。

4.根据权利要求1所述的平面双闪耀光栅的制作方法，其特征在于：上述步骤中，从平面玻璃基底（3）的A闪耀区（4）到B闪耀区（5）的刻划动作是连续刻划的。

5.根据权利要求1所述的平面双闪耀光栅的制作方法，其特征在于：工作平台的横向分度运动通过光栅尺对丝杆的精密细分实现，刻划机构的竖向运动通过伺服电机带动连接刀桥的传动皮带引导刻刀实现刻划动作。

6.根据权利要求1所述的平面双闪耀光栅的制作方法，其特征在于：所述安装在刻划机构的旋转圆盘（6）上的刻刀，其垂直距离大于50mm。