[发明专利]表面处理氧化铟锌基板的有机溶液及显示基板制备方法在审
申请号: | 201310560061.9 | 申请日: | 2013-11-12 |
公开(公告)号: | CN104102028A | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 崔玄武;金智惠;安暻源;柳娥凛;任宰范;田桓承;许健宁 | 申请(专利权)人: | 第一毛织株式会社 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;张英 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 氧化 铟锌基板 有机 溶液 显示 制备 方法 | ||
相关申请
本申请要求分别于2013年4月10日和6月3日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请号10-2013-0039335和10-2013-0063501的优先权和权益,它们的全部内容通过引用并入本文。
技术领域
公开了一种用于表面处理氧化铟锌(IZO)基板的有机溶液和一种使用该有机溶液制备显示基板的方法。
背景技术
一般来说,由于将黑色物质涂覆于显示用的玻璃基板上并且不产生残留物地形成黑色图案,这个过程可以无问题地进行。黑色图案可包括黑色矩阵或黑色柱间隔(column spacer)。
近期对用于显示面板的电极中的氧化铟锌(IZO)以及氧化铟锡(ITO)的兴趣已经增加,因此,已经尝试在这些基板上制造黑色图案。
发明内容
一个实施方式提供了一种用于表面处理氧化铟锌(IZO)基板以便在挡光层的图案形成期间最小化残留物的有机溶液。
另一个实施方式提供了一种使用该用于表面处理氧化铟锌(IZO)基板的有机溶液制备显示基板的方法。
一个实施方式提供了一种用于表面处理氧化铟锌(IZO)基板的有机溶液,其用于氧化铟锌(IZO)基板的表面处理,并且其包含有机物质,该有机物质包含次氮基三乙酸(nitrilo triacetic acid)、异羟肟酸、硫醇、羧酸、醇、磷酸、磺酸或它们的组合。
有机溶液可进一步包含溶剂,并且该溶液可包含蒸馏水、醇、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺或它们的组合。
基于有机溶液的总量,可以以1至10wt%的包含有机物质。
另一个实施方式提供了一种制备显示基板的方法,其包括用有机物质表面处理氧化铟锌(IZO)基板;以及在用有机物质表面处理过的IZO基板上涂覆光敏树脂组合物,然后预烘焙、曝光和显影该光敏树脂组合物以形成挡光层,其中有机物质包括次氮基三乙酸、异羟肟酸、硫醇、羧酸、醇、磷酸、磺酸或它们的组合。
可以通过将IZO基板浸渍于包含有机物质的有机溶液中以表面处理所述IZO基板。
所述光敏树脂组合物可包括粘合剂树脂、可光聚合(光聚合性,photopolymerizable)单体、光聚合引发剂、着色剂和溶剂。
在以下具体实施方式中包括其它实施方式。
可以无残留物地在氧化铟锌(IZO)基板上实现挡光层的图案。
附图说明
图1至图4为分别示出根据实施例1和比较例1至3的显示基板的残留物图像的光学显微镜照片。
具体实施方式
在下文中,详细地描述了实施方式。然而,这些实施方式是示例性的,且本公开并不限于此。
一个实施方式提供了一种用于IZO基板表面处理的有机溶液,其用于氧化铟锌(IZO)基板的表面处理。
有机溶液包括有机物质。有机物质可包括次氮基三乙酸、异羟肟酸、硫醇、羧酸、醇、磷酸、磺酸或它们的组合,并且它们当中,优选次氮基三乙酸。
当使用包含有机物质的有机溶液处理IZO基板的表面时,在后续工艺中在IZO基板上形成挡光层期间,由于有机物质与IZO基板上的锌金属的相互作用,可以使挡光层材料的残留物最小化。
有机溶液可进一步包含溶剂。溶剂可包括蒸馏水、醇、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺或它们的组合。醇可以包括伯醇、仲醇、叔醇等。
基于有机溶液的总量,可以以1至10wt%,且特别的3至7wt%的量包含有机物质。当有机物质包括在该范围内时,有机物质在IZO基板的表面上可以有效地相互作用并且在挡光层的形成期间使挡光层的残留物最小化。
根据另一个实施方式,所述有机溶液可以用于在表面处理过的IZO基板上形成挡光层,制造显示基板。
具体地,可以通过使用有机物质处理IZO基板的表面并且在以该有机物质进行了表面处理的IZO基板上形成挡光层来制造显示基板。
当在形成挡光层之前有机物质预处理IZO基板表面上的有机物质时,有机物质与IZO基板上的锌金属相互作用,从而可以使IZO基板的表面上的挡光层材料的残留物最小化。
根据一个实施方式,在IZO基板上形成挡光层以制造显示基板。另一方面,氧化铟锡(ITO)基板与挡光层材料间没有高的紧密接触力并且几乎不产生挡光层材料的残留物。与ITO基板不同,IZO基板与挡光层材料之间具有非常高的紧密接触力并产生残留物,因此当IZO基板的表面上预处理有机物质之后形成挡光层时,挡光层材料的残留物可以被最小化。
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