[发明专利]成膜装置无效
申请号: | 201310552626.9 | 申请日: | 2013-11-08 |
公开(公告)号: | CN103805947A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 久保田绅治;森田治 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;H05B33/10;H05B33/14 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
技术领域
本发明的各种方面和实施方式涉及成膜装置。
背景技术
近年来,利用有机EL(电致发光:Electro-Luminescence)元件的有机EL显示器备受关注。有机EL显示器中利用的有机EL元件具有自发光、反应速度快、消耗电力低等特征,因此,不需要背光源,例如期待在便携型机器的显示部等中应用。
有机EL元件的成膜中,存在使用供给气化的蒸镀材料的蒸气在基板上形成蒸镀膜的成膜装置的情况。这里,蒸镀材料例如为有机EL元件等的有机材料。成膜装置例如具备:区划出用于处理基板的处理室的处理容器;在处理室中搬运基板的搬运机构;和沿着基板的搬运方向配置的向着基板的被成膜面依次喷射含有蒸镀材料的蒸气的气体的多个蒸镀头等。另外,成膜装置具备用于将处理室减压的排气机构等。
然而,在这样的成膜装置中,为了避免相邻的蒸镀头彼此的蒸气的混入,要求将蒸镀头之间隔离。这点在专利文件1中公开了在蒸镀头之间设置具有规定高度的分隔壁,由该分隔壁遮挡来自相邻的蒸镀头的蒸气。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2012-26041号公报
发明内容
发明所要解决的课题
然而,在现有技术中,没有考虑到避免相邻的蒸气头彼此的蒸气的混入且抑制排气效率的降低。
即,如现有技术那样,仅在蒸气头之间设置具有规定高度的分隔壁,难以阻挡流过分隔壁的蒸气,因此,有可能发生相邻的蒸气头彼此的蒸气的混入。另外,在现有技术中,由于分隔壁阻碍气体向排气机构的流动,因此,蒸气头的周围的排气效率可能降低。
用于解决课题的方法
本发明的一个方面的成膜装置具备处理容器、搬运机构、多个蒸镀头、分隔壁和排气机构。处理容器区划出用于处理基板的处理室。搬运机构在上述处理室中,在沿着规定方向延伸的搬运路径上搬运上述基板。多个蒸镀头沿着上述规定方向配置于上述处理室,向由上述搬运机构在上述搬运路径上搬运的上述基板的成膜面喷射含有蒸镀材料的蒸气的气体。排气机构经由设置于各上述收纳室的排气口与各上述收纳室连接,对上述蒸镀头的周围进行排气。
发明的效果
根据本发明的各个方面和实施方式,可以实现能够避免相邻的蒸气头彼此的蒸气的混入且抑制排气效率的降低的成膜装置。
附图说明
图1是示意地表示一个实施方式的成膜装置的图。
图2是图1所示的成膜装置的P-P线的剖面图。
图3是图1所示的成膜装置的Q-Q线的剖面图。
图4是表示在停止由真空泵的排气时的收纳室压力的时间变动的说明图。
图5是表示收纳室的压力和蒸镀材料的成膜速率的对应关系的图。
图6是表示支撑基板的载台静止时的收纳室的压力和蒸镀膜的膜厚分布的对应关系的图。
图7是表示收纳室的压力和蒸镀膜的均匀性的对应关系的图。
图8是表示收纳室的压力和收纳室所含的各成分的分压的对应关系的图。
图9是表示收纳室所含的水分(H2O)的分压和蒸镀膜的纯度的对应关系的图。
图10是表示一个实施方式的蒸镀头的立体图。
图11是示意地表示一个实施方式的气体供给源的图。
图12是表示能够使用一个实施方式的成膜装置所制造的有机EL元件的完成状态的一例的图。
图13A是表示利用一个实施方式的成膜装置对基板进行成膜处理时的蒸镀膜的均匀性的图。
图13B是表示利用一个实施方式的成膜装置对基板进行成膜处理时的蒸镀膜的均匀性的图。
图13C是表示利用一个实施方式的成膜装置对基板进行成膜处理时的蒸镀膜的均匀性的图。
图14是表示利用一个实施方式的成膜装置对基板进行成膜处理时的收纳室所含的水分的分压的变化的图。
图15是用于说明使用一个实施方式的成膜装置所制造的有机EL元件的器件特性的说明图。
具体实施方式
以下,参照附图对各种实施方式进行详细说明。此外,在各附图中,对相同或相当的部分标注同一附图标记。
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