[发明专利]一种大面积图案化蓝宝石衬底的制备方法无效
申请号: | 201310549792.3 | 申请日: | 2013-11-07 |
公开(公告)号: | CN103579421A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 倪蒙阳;郭旭;袁长胜 | 申请(专利权)人: | 无锡英普林纳米科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;G03F7/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 李媛媛 |
地址: | 214192 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大面积 图案 蓝宝石 衬底 制备 方法 | ||
1.一种大面积图案化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:
(1)制备纳米压印用的金属Ni模板
a)在(100)硅片上用EBL制备纳米孔阵硅模板A;
b)利用电子束蒸镀设备在硅模板A上沉积10nm厚的金属Ni;
c)将步骤b)制备的硅模板A在Ni的电镀液中电镀金属Ni层至所需厚度,然后将电镀的金属Ni层与硅模板A分离,得到金属Ni点阵模板B,其周期与硅模板A相同,但是其结构与硅模板A相反;
(2)利用(1)中制备的金属Ni模板进行热压印以及电子束蒸镀、举离工艺
a)在蓝宝石衬底上旋涂特定厚度的热压印胶,利用(1)中得到的金属Ni点阵模板B进行热压印;
b)利用热压印得到的热压胶结构,在O2等离子体中刻蚀至蓝宝石衬底露出;
c)利用电子束蒸镀在刻蚀完的蓝宝石衬底表面沉积一层金属,再举离得到表面具有金属点阵掩膜结构的蓝宝石衬底;
(3)利用(2)中得到的金属点阵掩膜层进行蓝宝石衬底的刻蚀
将(2)中得到的蓝宝石衬底在ICP中用Cl2和BCl3进行刻蚀,将残余金属点阵掩膜层洗去,得到纳米图案化的蓝宝石衬底。
2.根据权利要求1所述的一种大面积图案化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,所述(1)步骤c)中,电镀金属Ni层的厚度为100-300微米。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡英普林纳米科技有限公司,未经无锡英普林纳米科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310549792.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种纯水箱
- 下一篇:一种底板施工缝混凝土收口网装置