[发明专利]一种大面积图案化蓝宝石衬底的制备方法无效

专利信息
申请号: 201310549792.3 申请日: 2013-11-07
公开(公告)号: CN103579421A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 倪蒙阳;郭旭;袁长胜 申请(专利权)人: 无锡英普林纳米科技有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;G03F7/00;B82Y40/00
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 李媛媛
地址: 214192 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 大面积 图案 蓝宝石 衬底 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种大面积图案化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:

(1)制备纳米压印用的金属Ni模板

a)在(100)硅片上用EBL制备纳米孔阵硅模板A;

b)利用电子束蒸镀设备在硅模板A上沉积10nm厚的金属Ni;

c)将步骤b)制备的硅模板A在Ni的电镀液中电镀金属Ni层至所需厚度,然后将电镀的金属Ni层与硅模板A分离,得到金属Ni点阵模板B,其周期与硅模板A相同,但是其结构与硅模板A相反;

(2)利用(1)中制备的金属Ni模板进行热压印以及电子束蒸镀、举离工艺

a)在蓝宝石衬底上旋涂特定厚度的热压印胶,利用(1)中得到的金属Ni点阵模板B进行热压印;

b)利用热压印得到的热压胶结构,在O2等离子体中刻蚀至蓝宝石衬底露出;

c)利用电子束蒸镀在刻蚀完的蓝宝石衬底表面沉积一层金属,再举离得到表面具有金属点阵掩膜结构的蓝宝石衬底;

(3)利用(2)中得到的金属点阵掩膜层进行蓝宝石衬底的刻蚀

将(2)中得到的蓝宝石衬底在ICP中用Cl2和BCl3进行刻蚀,将残余金属点阵掩膜层洗去,得到纳米图案化的蓝宝石衬底。

2.根据权利要求1所述的一种大面积图案化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,所述(1)步骤c)中,电镀金属Ni层的厚度为100-300微米。

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