[发明专利]氧化铟锡图案曝光装置

权利要求书

1.一种氧化铟锡图案曝光装置，其具备：膜掩模，所述膜掩模描绘有待曝光的电路图案；和掩模架，所述掩模架具有支承该膜掩模的透明体，该氧化铟锡图案曝光装置在具有待形成所述电路图案的氧化铟锡膜的透明膜上进行曝光，其特征在于，

所述氧化铟锡图案曝光装置具有：

对位用的膜标记，其具有在所述透明膜上设置的氧化铟锡膜；

掩模孔，其比所述膜标记大，所述掩模孔设在所述膜掩模的与所述膜标记对应的位置；以及

对位用的掩模标记，其设在该掩模孔的周围。

2.根据权利要求1所述的氧化铟锡图案曝光装置，其中，

所述氧化铟锡图案曝光装置还具备吸附槽，所述吸附槽设于所述掩模架，用于使所述膜掩模的掩模孔的周围吸附于掩模架。

3.根据权利要求1所述的氧化铟锡图案曝光装置，其中，

所述氧化铟锡图案曝光装置还具备多个框形状的吸附槽，所述多个框形状的吸附槽设于所述掩模架，并且与多个预定的范围相对应地设置，各所述预定的范围被一个所述吸附槽包围。