[发明专利]制造显示器的方法及用于该方法的沉积装置有效

专利信息
申请号: 201310540886.4 申请日: 2013-11-05
公开(公告)号: CN104103582B 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: 赵喆来;许明洙;郑石源;张喆旼;李正浩 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L51/56
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;刘奕晴
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 制造 显示器 方法 用于 沉积 装置
【说明书】:

本发明提供一种当同时制造多个显示器时可以降低沉积的不均匀性的制造显示器的方法,以及一种可在该方法中使用的沉积装置。其中,该方法包括:制备具有矩阵图案的多个区域的母衬底,所述母衬底被用于形成对应于所述多个区域的多个显示器单元;将母衬底插入沉积室,其中,沉积源在沉积室中;通过使用包括了沿第一方向延伸的多个平行条纹形状的掩模板的掩模来在母衬底上沉积材料;沿着所述多个显示器单元的每个的边缘切割母衬底,从而得到多个显示器。

本申请要求于2013年4月4日在韩国知识产权局提交的第10-2013-0036983号韩国专利申请的优先权和权益,该韩国专利申请的内容通过引用全部包含于此。

技术领域

本发明的各方面涉及一种制造显示器的方法及沉积装置。

背景技术

一般来说,在显示器制造工艺中包括了用于在衬底上形成特定的膜的沉积工艺。在沉积工艺中,掩模包括向对应于将要在衬底上形成膜的区域的部分的开口。该掩模被附着于衬底或被放置为接近衬底,并且然后从源释放的材料经过开口沉淀在衬底的预定区域上。

然而,常规的掩模或通过使用该掩模来制造显示器的方法不易于沉积均匀的膜。例如,当使材料沉积来同时制造多个显示器时,在多个显示器上沉积的膜彼此相比可能会不均匀。

发明内容

本发明的实施例提供了一种当同时制造多个显示器时可以降低沉积的不均匀性的制造显示器的方法,以及可在该方法中使用的沉积装置。然而,这里描述的实施例是示例性的,并因此本发明的范围不限于此。

根据本发明的一个方面,提供有制造多个显示器的方法,该方法包括:制备具有矩阵图案的多个区域的母衬底,所述母衬底被用于形成对应于多个区域的多个显示器单元;将母衬底插入沉积室,其中,在沉积室中沉积源沿第一方向或与第一方向相反的第二方向可移动;通过使用包括了沿第一方向延伸的多个平行条纹形状的掩模板的掩模来在母衬底上沉积材料;沿着所述多个显示器单元的每个的边缘切割母衬底,从而得到多个显示器。

在母衬底上沉积材料的步骤可以包括:在掩模的位置相对于母衬底被固定的同时,在母衬底上沉积材料。

掩模的掩模板可以与沿第一方向排列的母衬底的多个区域的行之间的间隙相对应。

掩模可以不具有沿与第一方向交叉的第三方向延伸的掩模板。

多个显示器单元的每个可以包括有机发光器件。

根据本发明的一个方面,提供有制造多个显示器的方法,该方法包括:制备具有矩阵图案的多个区域的母衬底,所述母衬底被用于形成对应于所述多个区域的多个显示器单元;将母衬底插入包括沉积源的沉积室;在沿第一方向和与第一方向相反的第二方向中的至少一个方向移动母衬底的同时,通过使用包括了沿第一方向延伸的多个平行条纹形状的掩模板的掩模来在母衬底上沉积材料;沿着所述多个显示器单元的每个的边缘切割母衬底,从而得到多个显示器。

在母衬底上沉积材料的步骤可以包括:在移动母衬底的同时且在掩模的位置相对于沉积源被固定的同时,在母衬底上沉积材料。

在母衬底上沉积材料的步骤可以包括:在掩模的位置相对于母衬底被固定的同时,在母衬底上沉积材料。

掩模的掩模板可以与在第一方向排列的母衬底的多个区域的行之间的间隙相对应。

掩模可以不具有在穿过第一方向的第三方向延伸的掩模板。

多个显示器单元的每个可以包括有机发光器件。

根据本发明的一个方面,提供有沉积装置,包括:沉积室,包括沿第一方向和与第一方向相反的第二方向可移动的沉积源;掩模,包括沿第一方向延伸的多个平行条纹形状的掩模板。

当使材料沉积在插入的母衬底上时,掩模的位置相对于插入的母衬底可以被固定。

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