[发明专利]一种高裂化活性的中孔材料

权利要求书

1.一种高裂化活性的中孔材料，具有拟薄水铝石结构，其无水化合物组成以氧化物重量比计为（0-0.2）Na₂O·（40-85）Al₂O₃·（10-55）SiO₂·（0.5-10）P₂O₅·（0.5-5）MgO·（0-5）M_xO_y，其中金属M选自元素周期表IIB、IIIB、IVB、VIIB族中的一种或多种，其中x为O的最高化合价态，y为金属M的最高化合价态，该材料的比表面积为200～500m²/g，孔容为0.5～1.5cm³/g，平均孔径为8～18nm。

2.按照权利要求1的中孔材料，其特征在于其比表面积为300～450m²/g，孔容为0.7～1.2cm³/g，平均孔径为10～15nm。

3.按照权利要求1的中孔材料，其中，所说的IIB、IIIB、IVB、VIIB族金属为Zn、Y、Ti和Mn中的一种或多种金属的混合。

4.按照权利要求1的中孔材料，其中，所说的多种金属的混合是Ti和Mn的混合或者是Mn和Zn的混合。

5.权利要求1～4之一的中孔材料的制备方法，其特征在于包括下述步骤：

（1）将铝源与碱溶液在室温至85℃下中和成胶，控制成胶pH值为7～11；

（2）按照SiO₂：Al₂O₃＝1：（0.6～9）的重量比加入硅源，在室温至90℃下陈化1～5小时；

（3）将所得固体沉淀物与铵盐或酸溶液接触处理，过滤得到钠含量低于0.3重量%的固体沉淀物；

（4）将（3）得到的固体沉淀物与磷源、镁源、可选的IIB、IIIB、IVB、VIIB族中的一种或多种金属化合物，按照P₂O₅：MgO：M_xO_y：材料干基=（0.005～0.1）：（0.005～0.05）：（0～0.05）：1的重量比接触处理，并于100℃～150℃下干燥10～20小时，或再于500℃～700℃下焙烧1～4小时。

6.按照权利要求5的制备方法，其中，步骤（1）所说的铝源选自硝酸铝、硫酸铝或氯化铝；所说的碱选自氨水、氢氧化钾、氢氧化钠或偏铝酸钠。

7.按照权利要求5的制备方法，其中，步骤（2）所说的硅源选自水玻璃、硅酸钠、四甲氧基硅、四乙氧基硅、四丙氧基硅、四丁氧基硅或氧化硅。

8.按照权利要求5的制备方法，其中，步骤（3）所说的与铵盐接触处理的过程是将步骤（2）所得的固体沉淀物按沉淀物干基：铵盐：H₂O＝1：（0.1～1）：（5～30）的重量比在室温至100℃下交换1～3次，每次交换0.5～1小时，直至固体沉淀物中钠含量低于0.3重量％。

9.按照权利要求8的制备方法，其特征在于，所说铵盐接触处理过程中，铵盐包括氯化铵、硫酸铵、硝酸铵、碳酸铵和碳酸氢铵中的一种或多种。

10.按照权利要求5的制备方法，其特征在于，步骤（3）所说的与酸溶液接触处理的过程，是将步骤（2）所得的固体沉淀物按沉淀物干基：酸：H₂O＝1：（0.03～0.30）：（5～30）的重量比在室温至100℃下至少交换0.2小时。

11.按照权利要求10的制备方法，其特征在于，所说的酸溶液接触处理过程中用到的酸选自硫酸、盐酸或硝酸。