[发明专利]一种光学镀膜材料制备工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种制备工艺，特别是涉及一种光学镀膜材料制备工艺。

背景技术

众所周知，真空镀膜质量的好坏有许多影响因素，其中，镀膜时真空波动的大小和成膜后膜层折射率与标准值的偏差是衡量真空镀膜质量的两个重要指标。但是光学镀膜材料的制备工艺中仍然存在各种问题，膜材料的状态也同样直接影响到其工业应用。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种光学镀膜材料制备工艺，能够提供一种光学镀膜材料的粉末状、压片状和结晶状三种不同状态、将材料中的结晶水脱去，能够极大程度的适应各种工业需求。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种光学镀膜材料制备工艺，包括以下操作步骤：首先选择光学镀膜材料，然后将其放入所制备的容器中，进行机械粉碎处理，将粉碎处理好的然后进行烘干与低温脱水处理，所述烘干温度设置为200~300℃，处理时间为30~60min。

在本发明一个较佳实施例中，所述制备工艺工艺中进一步包含有制冷步骤，所述制冷步骤与烘干、脱水处理步骤相连，所述制冷步骤中通过压片机冷压粘结成型。

在本发明一个较佳实施例中，所述脱水、熔炼步骤设置为真空条件下进行。

在本发明一个较佳实施例中，所述机械粉碎为粉碎机粉碎。

在本发明一个较佳实施例中，所述制备工艺工艺中还进一步包含有熔炼步骤，所述熔炼步骤在烘干、脱水处理步骤之后，所述熔炼步骤中温度1500~1700℃。

本发明的有益效果是：本发明提供一种光学镀膜材料的制备工艺，能够利用对处理条件的控制制造出粉末状、压片状和结晶状三种不同状态。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：

图1是本发明一种光学镀膜材料制备工艺一较佳实施例的流程示意图。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1，本发明实施例提供如下技术方案。

在一个实施例中，一种光学镀膜材料制备工艺，包括以下操作步骤：首先选择光学镀膜材料，然后将其放入所制备的容器中，进行机械粉碎处理，将粉碎处理好的然后进行烘干与低温脱水处理，所述烘干温度设置为200~300℃，处理时间为30~60min。

区别于现有技术，在一个实施例中，优选地，所述制备工艺工艺中进一步包含有制冷步骤，所述制冷步骤与烘干、脱水处理步骤相连，所述制冷步骤中通过压片机冷压粘结成型。

优选地，所述制备工艺工艺中还进一步包含有熔炼步骤，所述熔炼步骤在烘干、脱水处理步骤之后，所述熔炼步骤中温度1500~1700℃。

优选地，所述机械粉碎为粉碎机粉碎。

优选地，所述脱水、熔炼步骤设置为真空条件下进行，能够有效的保证生产出来的膜材料的功能。

本发明通过对脱水、熔炼等步骤中环境的控制，提供一种光学镀膜材料的粉末状、压片状和结晶状三种不同状态、将材料中的结晶水脱去，能够极大程度的适应各种工业需求。

以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。