[发明专利]液晶取向剂、相位差膜及相位差膜的制造方法在审
申请号: | 201310517104.5 | 申请日: | 2013-10-28 |
公开(公告)号: | CN103834415A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 王道海;村主拓弥 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | C09K19/56 | 分类号: | C09K19/56;G02B5/30;G02F1/1337;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 日本东京港*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 取向 相位差 制造 方法 | ||
1.一种液晶取向剂,其特征在于含有:
聚合物(A),其为选自由(甲基)丙烯酸系聚合物及聚有机硅氧烷所组成的群组中的至少一种,并且具有光取向性基;以及
硅烷化合物(B),具有选自由(甲基)丙烯酰氧基、乙烯基、异氰酸基、氨基、硫醇基及环氧基所组成的群组中的至少一种官能基。
2.根据权利要求1所述的液晶取向剂,其特征在于:相对于所述聚合物(A)100重量份,所述硅烷化合物(B)的含量为10重量份~300重量份。
3.根据权利要求1或2所述的液晶取向剂,其特征在于:所述聚合物(A)还具有(甲基)丙烯酰氧基。
4.根据权利要求1或2所述的液晶取向剂,其特征在于:所述聚合物(A)还具有羟基。
5.根据权利要求1或2所述的液晶取向剂,其特征在于用于制造相位差膜。
6.一种相位差膜的制造方法,其特征在于包括以下工序:
将根据权利要求5所述的液晶取向剂涂布到基板上,形成涂膜的工序;
对所述涂膜进行光照射的工序;以及
在经光照射后的所述涂膜上涂布聚合性液晶并使其硬化的工序。
7.根据权利要求6所述的相位差膜的制造方法,其特征在于:所述基板为对形成所述涂膜的面实施了底漆处理的基板。
8.一种相位差膜,其特征在于具有液晶取向膜,所述液晶取向膜是使用根据权利要求5所述的液晶取向剂而形成。
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