[发明专利]声表面波传感器复合敏感膜的制备装置和制备工艺

权利要求书

1.一种声表面波传感器复合敏感膜的制备装置，其特征在于：包括出口对准声表面波器件(3)的表面的至少两个气喷雾沉积装置，不同的气喷雾沉积装置中填装不同材料的溶液，所有气喷雾沉积装置在一个声表面波器件(3)的表面上同时沉积多种材料，获得复合敏感膜(4)。

2.一种声表面波传感器复合敏感膜的制备工艺，其特征在于：包括下述步骤：

步骤1：在声表面波器件(3)的上方设置至少两个气喷雾沉积装置，使每个气喷雾沉积装置的出口对准声表面波器件(3)的表面；

步骤2：根据需要喷涂的复合敏感膜的参数调节好每一个气喷雾沉积装置的工艺参数；

步骤3：用挡板将所有气喷雾沉积装置的喷口挡住，打开所有气喷雾沉积装置的开关，待形成稳定的射流后，移开挡板，所有气喷雾沉积装置同时对声表面波器件（3）进行沉积，在声表面波器件（3）的表面形成复合敏感膜（4），待沉积持续进行了所需的时间后，用挡板将所有气喷雾沉积装置的喷口挡住，关闭所有气喷雾沉积装置的开关，工艺流程结束。

3.如权利要求2所述的一种声表面波传感器复合敏感膜的制备工艺，其特征在于：步骤2中的工艺参数包括气喷雾装置至声表面波器件的距离，溶液的浓度、溶液流出的流量、压缩气体的压强；溶液流出的流量通过溶液输送管上的旋钮调节，压缩气体的压强通过气管上的阀门调节。

4.如权利要求2所述的一种声表面波传感器复合敏感膜的制备工艺，其特征在于：通过调节每一气喷雾沉积装置的溶液流出的流量，来改变复合敏感膜（4）中各组分的比例。

5.如权利要求2所述的一种声表面波传感器复合敏感膜的制备工艺，其特征在于：通过调节每一气喷雾沉积装置与声表面波器件（3）的表面的距离，来改变各材料在声表面波器件（3）表面的沉积速率，进而改变复合敏感膜（4）中各组分的比例。

6.如权利要求2所述的一种声表面波传感器复合敏感膜的制备工艺，其特征在于：复合敏感膜(4)覆盖整个声表面波器件声表面波器件（3）表面，或者通过掩模板，只覆盖声表面波器件（3）表面的部分区域。

7.如权利要求2所述的一种声表面波传感器复合敏感膜的制备工艺，其特征在于：声表面波模式包括瑞利波、LAMB波、乐甫波、漏波、水平剪切波中的任一种。