[发明专利]柔性基板制备方法有效
申请号: | 201310511430.5 | 申请日: | 2013-10-25 |
公开(公告)号: | CN103531442A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 谢明哲;谢春燕;刘陆;毛雪 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/683 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 柔性 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种柔性基板制备方法。
背景技术
柔性显示装置是一种基于柔性基底材料制作形成的显示装置。由于柔性显示装置具有可卷曲、宽视角、便于携带等特点,因此,在便携产品、多数显示应用领域柔性显示装置具有广阔的应用前景以及良好的市场潜力。
然而,对于柔性显示装置而言,其制备过程中极易发生褶皱、变形、偏移等问题,在现有生产工艺中通常利用了刚性基底,在刚性基底上依次制备形成柔性基板中的各元件层。然后通过剥离工艺,将形成的柔性基板从刚性基底上剥离开来,从而完成柔性显示装置的制备工作。
然后,在实现上述将柔性基板从刚性基底上分离的过程中,发明人发现现有技术中至少存在如下问题:现有技术通常利用黏胶粘贴或机械力牵引的方式来实现将柔性基板从刚性基底上分离的目的。然而,利用黏胶粘贴方式分离柔性基板,后续还需要去除黏胶;而利用机械力牵引方法分离柔性基板,则需要为此设计精密的控制设备,这均增加了分离工序的复杂程度,不利于提高柔性显示装置的生产效率。
发明内容
本发明的实施例提供一种柔性基板制备方法,藉由气体产生的压力差,将柔性基板与刚性基底剥离开,从而解决了柔性基板分离困难的问题。
为解决上述技术问题,本发明的实施例采用如下技术方案:
一种柔性基板制备方法,包括:
在刚性基底上形成牺牲层;
在形成有所述牺牲层的所述刚性基底上制备柔性基板;所述柔性基板与所述牺牲层之间的接着力小于所述柔性基板与所述刚性基底之间的接着力;
在对应所述牺牲层所在区域内的所述柔性基板上形成切割线,所述切割线形成一闭合切割区域且所述切割线切割深至所述牺牲层;
在闭合切割区域外侧的所述柔性基板上形成孔洞,向所述孔洞内注入气体;
利用封装材料将所述孔洞以及所述切割线密封,将形成有所述牺牲层以及所述柔性基板的所述刚性基底置于低压环境;利用低压环境与所述孔洞内注入气体之间产生的气压差,将闭合切割区域内的所述柔性基板与所述刚性基底剥离开。
进一步的,所述牺牲层的面积小于所述刚性基底的面积。
进一步的,所述柔性基板面积大于所述牺牲层的面积且完全覆盖所述牺牲层。
进一步的,所述在形成有牺牲层的刚性基底上制备柔性基板的步骤,具体包括:在形成有所述牺牲层的所述刚性基底上形成柔性衬底,并在所述柔性衬底上制备显示元件层。
优选的,所述切割线和所述孔洞均形成在所述柔性基板上对应所述牺牲层边缘的部分区域。
优选的,所述低压环境的真空度不大于0.3KPa。
进一步的,在将闭合切割区域内的柔性基板与刚性基底剥离开之后,所述方法还包括:
去除剥离完成后所述柔性基板上残留的所述封装材料。
优选的,形成的所述牺牲层的厚度不大于1μm。
优选的,所述孔洞与所述切割线之间的最长距离不大于5cm;所述孔洞的开口呈长方形、正方形、圆形、三角形、十字形中任意一种或几种。
本发明实施例提供的柔性基板制备方法,首先在切割线形成的闭合切割区域外围制备形成孔洞并向孔洞内注入气体,然后将孔洞以及切割线封住并抽取真空,利用真空与孔洞内注入气体之间的气压差,从而将柔性基板与刚性基底剥离开。本发明实施例提供的柔性基板制备方法简单易操作,而且剥离过程中能够有效的避免对柔性基板造成损伤,可以有效的提高柔性显示装置的生产效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例柔性基板制备方法的流程示意图。
图2a至图2f为本发明实施例柔性基板制备方法的原理示意图。
具体实施方式
本发明实施例提供的一种柔性基板制备方法,藉由气体产生的压力差,将柔性基板与刚性基底剥离开,从而解决了柔性基板分离困难的问题。
以下描述中,为了说明而不是为了限定,提出了诸如特定系统结构、接口、技术之类的具体细节,以便透切理解本发明。然而,本领域的技术人员应当清楚,在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本发明。在其它情况中,省略对众所周知的装置、电路以及方法的详细说明,以免不必要的细节妨碍本发明的描述。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造