[发明专利]一种重离子微孔滤膜的辐照方法有效
| 申请号： | 201310509331.3 | 申请日： | 2013-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN103521087A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 陈大年;安孟稼;刘泽超;易蓉 | 申请（专利权）人： | 北京南洋慧通新技术有限公司 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01J19/12 |
| 代理公司： | 北京市盛峰律师事务所 11337 | 代理人： | 赵建刚 |
| 地址： | 100085 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 离子 微孔 滤膜 辐照 方法 | ||
1.一种重离子微孔滤膜的辐照方法，其特征在于，包括步骤如下：
S1，在辐照装置的窗口前，将用于辐照的薄膜横向间隔划分为辐照区和非辐照区，在所述非辐照区设置阻挡重离子通过的辐照阻隔器；
S2，用重离子加速器加速的重离子或核反应堆产生的裂变碎片对所述薄膜进行辐照；
S3，将辐照好的所述薄膜用功率为0.5～6Kw的紫外线照射装置进行增敏照射；
S4，将增敏照射后的所述薄膜放入溶液浓度为3～8mol/L的蚀刻设备中进行化学蚀刻，形成带有无孔窄条的重离子微孔滤膜；
S5，将化学蚀刻完成的所述薄膜放入去离子水清洗设备中进行清洗；
S6，将清洗后的所述薄膜放入烘干设备中进行烘干。
2.根据权利要求1所述的重离子微孔滤膜的辐照方法，其特征在于：S1中，所述薄膜为厚度6～80微米的PET或PC膜。
3.根据权利要求1所述的重离子微孔滤膜的辐照方法，其特征在于：S1中，所述辐照区的宽度为50～150mm，所述非辐照区的宽度为0.5～3mm。
4.根据权利要求1所述的重离子微孔滤膜的辐照方法，其特征在于：S2中，辐照密度为1×104～1×1010个径迹/cm2。
5.根据权利要求1所述的重离子微孔滤膜的辐照方法，其特征在于：S3中，所述增敏照射的时间为1～30min。
6.根据权利要求1所述的重离子微孔滤膜的辐照方法，其特征在于：S4中，所述化学蚀刻的化学溶液为NaOH或KOH溶液，蚀刻温度30～90℃，蚀刻时间5～60min。
7.根据权利要求1所述的重离子微孔滤膜的辐照方法，其特征在于：S5中，将所述化学蚀刻完成的所述薄膜放入去离子水清洗设备中进行清洗，清洗温度为30℃～50℃。
8.根据权利要求1所述的重离子微孔滤膜的辐照方法，其特征在于：S6中，进行烘干的温度为30～80℃。
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