[发明专利]一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的方法及系统

说明书

技术领域

本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor liquid crystal display，TFT-LCD）制造技术，特别涉及一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的方法及系统。

背景技术

在TFT-LCD制程的光刻工艺中均需要使用曝光机（Exposure），通过曝光机对涂布有光刻胶膜的玻璃基板结合光罩实现曝光过程。在该步骤中，曝光的位置精度决定了后续制程中玻璃基板的对位与制作精度，如果曝光位置偏差异常，会导致下一制程中图案的位置无法匹配，从而可能导致TFT基板中晶体管无法导通或彩膜基板（CF）中红绿蓝（RGB）象素出现漏光的情形发生，从而有可能使成盒（CELL）时TFT基板与彩膜基板对位了现偏差，从而影响成盒时的产品良率。

故，对曝光机的曝光位置的精度控制显得尤为重要。现有技术中，需要对已曝光的玻璃基板的曝光位置精度进行量测，并根据量测值进行补值重新曝光，以保证玻璃基板的曝光精度。其中，一般可以量测两种数值：其一，对玻璃基板上曝光的第一层图形的总间距（Total Pitch）的量测，其中，总间距是指单方向上光罩设计上的两点之间距离与实际生产出来的玻璃基板量测两点之间距离的差距，如果总间距>0，则说明在玻璃基板上曝光出的图形比设计的变大了，反之如果总间距<0，则说明在玻璃基板上曝光出的图形比设计的变小了；其二，可以对后续光刻工艺中的覆盖区（Overlay）进行量测，一般是以玻璃基板上曝光的第一层图形为基准，测量其重叠区的相对位置大小。曝光机可以根据量测出来的总间距或覆盖区的数据来进行补值。

在现有技术中，经曝光后的玻璃基板经过后续制程或机台后，进入量测机台来量测总间距或覆盖区的数据，在量测数据出来后，由操作人员在量测机台的电脑上查看并输入补值公式表格，计算出补值量。然后人员将补值量输入曝光机的软件参数中，完成补值过程；在后续再观察补值后正常抽检玻璃的量测状况。

本发明人发现，现有的这种量测与补值的过程具有如下的不足之处：首先，补值的计算和输入均需操作人员手动进行，这样，一方面有失误出错的风险，另一方面若人员没有及时进行结果确认和补值，则会导致出现曝光精度异常的玻璃基板，例如，在一个实施情形下，节拍时间为30秒计算，在10分钟内就可能出现20片以上曝光精度异常的玻璃基板，这些曝光精度异常的玻璃基板只能重工，造成了浪费；而且，根据经验，因为量测机台抽检模式的设定，补值完成后的第一片玻璃基板重新进入量测机台进行量测的概率很低，无法及时确认补值后的效果；另外，为实现稳定的产品品质特性，需要操作人员持续进行确认和补值的工作，从而需要花费很多人工与时间，且可靠性差。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种玻璃基板曝光制程中实现自动补值的方法及系统，可以提高曝光机的补值效率以及补值准确性，并可节省人力。

为了解决上述技术问题，本发明的实施例的一方面提供了一种在玻璃基板曝光制程中实现自动补值的系统，包括量测机、与所述量测机通过通信接口模块网络进行通信的曝光机，其中：

所述量测机，用于自动对曝光后的玻璃基板进行量测，并将量测获得的各个量测点的曝光偏移量数据，通过所述通信接口模块网络上传给所述曝光机的预定存放区域中；

所述曝光机，用于从所述存放区域中读出所述曝光偏移量数据，并根据所述各个量测点的曝光偏移量数据获得所述各个量测点相应的补值量，并对所述玻璃基板上与所述各个量测点对应的曝光点进行补值处理。

其中，所述量测机包括：

量测单元，用于对曝光后的玻璃基板进行量测，获得所述玻璃基板的各个量测点的曝光偏移量数据；

偏移量格式判断单元，用于判断所述量测单元所获得的各个量测点的偏移量数据是否符合预定的格式；

反馈文件生成单元，用于在所述偏移量格式判断单元所判定所述各个量测点的偏移量数据中至少一部份符合预定的格式后，生成包含有所述各个量测点的偏移量数据的反馈文件；

发送单元，用于将所述反馈文件生成单元所生成的反馈文件发送出去。

其中，所述反馈文件中至少包括：文件生成时间、量测机标识号、玻璃基板标识号、各个量测点的X方向偏移量、各个量测点Y方向偏移量以及各个量测点的格式判断结果。

其中，所述量测机进一步包括：

提示单元，用于在所述偏移量格式判断单元所判定所述各个量测点的偏移量数据不符合预定的格式后，生成报警提示。

其中，所述曝光机包括：