[发明专利]LPCVD自动补水系统

权利要求书

1.LPCVD自动补水系统，包括湿氧SIO₂工艺炉管，其特征在于，所述湿氧SIO₂工艺炉管上连接有补水系统；所述补水系统包括储水罐（8），该储水罐（8）通过水蒸气输出管（9）与湿氧SIO₂工艺炉管相连接，在储水罐（8）上端还设置有高纯氮气输入管（10），储水罐（8）上还设置有进水口（5），在进水口（5）上安装有补水装置，储水罐（8）下方设置有加热器（7），加热器（7）上还设置有重力控制装置，重力控制装置与补水装置相连接。

2.根据权利要求1所述的LPCVD自动补水系统，其特征在于，所述补水装置包括进水管（2），在进水管（2）的端部固定在进水口（5）上，在进水管（2）上设置有两个球阀（1），在两个球阀（1）之间还设置有隔膜阀（3），在隔膜阀（3）上设置有空气管道（12），空气管道（12）上还设置有一个球阀（1），空气管道（12）上的球阀（1）与隔膜阀（3）之间还安装有电磁阀（11），补水装置通过该电磁阀（11）与重力控制装置相连。

3.根据权利要求2所述的LPCVD自动补水系统，其特征在于，所述空气管道（12）中有高压空气，进水管（2）中有高纯水。

4.根据权利要求3所述的LPCVD自动补水系统，其特征在于，所述重力控制装置包括设置在加热器（7）下方的重力计（6），重力计（6）上连接有重力控制器（4），该重力控制器（4）还同时连接在电磁阀（11）上。

5.根据权利要求4所述的LPCVD自动补水系统，其特征在于，所述水蒸气输出管（9）的下端管口设置在储水罐（8）内部，且靠近储水罐（8）上端面。

6.根据权利要求5所述的LPCVD自动补水系统，其特征在于，所述高纯氮气输入管（10）连接在高纯氮气源上，该高纯氮气输入管（10）下端设置在储水罐（8）内部，且靠近储水罐（8）底面。