[发明专利]太阳能电池用基板的表面处理方法有效
| 申请号： | 201310488489.7 | 申请日： | 2013-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN103849937A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 尹起燦;郭将荣;金起弘;金鍊起;李秉喆;崔锺亨;韩奭奎;洪定义 | 申请（专利权）人： | 韩化石油化学株式会社 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 朱梅;张皓 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 太阳能电池 用基板 表面 处理 方法 | ||
1.一种太阳能电池用基板的表面处理方法，包括以下步骤:
对于太阳能电池用基板进行第一湿式蚀刻；
进行反应离子蚀刻；以及
进行第二湿式蚀刻。
2.根据权利要求1所述的太阳能电池用基板的表面处理方法，其中通过所述第一湿式蚀刻，同时进行去除切割损伤和第一制绒处理。
3.根据权利要求1所述的太阳能电池用基板的表面处理方法，其中在进行所述第一湿式蚀刻时，使用包含体积比为1:2～4:1～3的HF、HNO3及H2O的溶液。
4.根据权利要求1所述的太阳能电池用基板的表面处理方法，其中通过所述反应离子蚀刻进行第二制绒处理，以在所述基板的表面上形成金字塔结构。
5.根据权利要求1所述的太阳能电池用基板的表面处理方法，其中在进行所述反应离子蚀刻时，使用包含Cl2、SF6及O2的气体。
6.根据权利要求4所述的太阳能电池用基板的表面处理方法，其中所述金字塔结构的高宽比为0.75～1.1。
7.根据权利要求1所述的太阳能电池用基板的表面处理方法，其中在进行所述第二湿式蚀刻时，使用包含体积比为1:13～17:15～19的HF、HNO3及H2O的溶液。
8.根据权利要求1所述的太阳能电池用基板的表面处理方法，其中所述第二湿式蚀刻，在温度为20～30℃的条件下进行10～60秒钟。
9.根据权利要求1所述的太阳能电池用基板的表面处理方法，其中所述太阳能电池用基板为选自单晶基板、单晶区和多晶区混合在一起的基板以及多晶基板中的一种类单晶基板。
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