[发明专利]沉积设备及将沉积材料沉积在基板上的方法

权利要求书

1.一种沉积设备，所述沉积设备包括：

真空室；

基板，设置在真空室中；

沉积源，设置在真空室中并且面对基板，用于将沉积材料提供到基板上；

激光振荡器，产生第一激光束；以及

光学单元，连接到真空室的第一侧并使第一激光束分束，以产生多束掩模激光束，其中，掩模激光束照射到真空室中以被设置在基板和沉积源之间，与掩模激光束接触的沉积材料被氧化，而穿过掩模激光束的沉积材料被沉积在基板上，

其中，掩模激光束用作执行沉积工艺的掩模。

2.如权利要求1所述的沉积设备，其中，掩模激光束设置为沿垂直于基板的方向与基板分隔开。

3.如权利要求2所述的沉积设备，其中，掩模激光束沿垂直于基板的方向与基板分隔开0.1mm到1.0mm的距离。

4.如权利要求2所述的沉积设备，其中，掩模激光束基本上与基板平行地布置并且掩模激光束彼此以规则间隔分隔开。

5.如权利要求1所述的沉积设备，其中，光学单元包括：

扩束器，被构造为使第一激光束扩大；

分束器，被构造为使扩大后的第一激光束分束，以产生多束第二激光束；以及

光束控制器，被构造为控制第二激光束中的相应的第二激光束的宽度以及第二激光束之间的距离，以产生掩模激光束。

6.如权利要求5所述的沉积设备，其中，扩束器包括：

凹透镜，被构造为使第一激光束扩大；

凸透镜，被构造为向分束器提供扩大后的第一激光束。

7.如权利要求5所述的沉积设备，其中，分束器包括多个透镜单元，所述多个透镜单元被构造为使扩大后的第一激光束分束而产生第二激光束。

8.如权利要求7所述的沉积设备，其中，光束控制器包括多个准直透镜单元，所述多个准直透镜单元分别对应于所述多个透镜单元，每个准直透镜单元被构造为控制从所述多个透镜单元中的相应的透镜单元提供的相应的第二激光束的宽度以及第二激光束之间的距离，以产生掩模激光束。

9.如权利要求1所述的沉积设备，其中，沉积源包括：

坩埚，被构造为加热填充在坩埚中的沉积材料，以使沉积材料蒸发；以及

多个喷嘴，被构造为将蒸发的沉积材料喷射到基板上。

10.一种将沉积材料沉积到基板上的方法，所述方法包括：

在真空室中设置基板；

产生第一激光束；

使第一激光束分束，以产生多束掩模激光束；

提供沉积材料；以及

将掩模激光束照射到真空室中并照射到沉积材料上，使得与掩模激光束接触的沉积材料被氧化，而穿过掩模激光束的沉积材料沉积在基板上，

其中，掩模激光束用作执行沉积沉积材料的掩模。