[发明专利]用于光学非球面加工的磁悬液抛光装置有效

专利信息
申请号: 201310485133.8 申请日: 2013-10-17
公开(公告)号: CN103495917A 公开(公告)日: 2014-01-08
发明(设计)人: 姜晨;李郝林 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: B24B13/01 分类号: B24B13/01
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 吴宝根;王晶
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 光学 球面 加工 磁悬液 抛光 装置
【权利要求书】:

1.一种用于光学非球面加工的磁悬液抛光装置,包括Z轴运动导轨模块(11),磁悬液抛光头机构(12),工作台(14),底座(15),X轴运动导轨模块(16),Y轴运动导轨模块(17),主轴支架(18),立柱(19),底座(15)后部上面固定连接立柱(19),其特征在于:所述立柱(19)上面固定连接Z轴运动导轨模块(11),Z轴运动导轨模块(11)通过主轴支架(18)固定连接磁悬液抛光头机构(12),底座(15)前部上面依次连接X轴运动导轨模块(16)和Y轴运动导轨模块(17),Y轴运动导轨模块(17)上面固定连接工作台(14)。

2.根据权利要求1所述的用于光学非球面加工的磁悬液抛光装置,其特征在于:所述磁悬液抛光头机构(12)包括主轴架(2)、磁铁固定盘(3)、永久磁铁(4)、有机玻璃隔盘(5)、磁悬液抛光体(6)、主轴(7)、滚动轴承(8)、联轴器(9)、主轴电机(10),主轴电机(10)固定在主轴架(2)上方,通过联轴器(9)与主轴(7)上端固定连接,主轴(7)通过滚动轴承(8)连接在主轴架中,主轴(7)下端固定连接磁铁固定盘(3),磁铁固定盘(3)下端面上通过磁性吸附永久磁铁(4),主轴架(2)底部粘接有机玻璃隔盘(5),有机玻璃隔盘(5)下端面上聚集有受永久磁铁(4)磁力吸附的磁悬液抛光体(6)。

3.根据权利要求1所述的用于光学非球面加工的磁悬液抛光装置,其特征在于:所述磁悬液成分包含水、铁粉及氧化铝磨粒,水、铁粉和氧化铝磨粒含量比例为2:7:1。

4.根据权利要求1所述的用于光学非球面加工的磁悬液抛光装置,其特征在于:所述永久磁铁(4)与磁铁固定盘(3)之间用强力热干胶加固连接。

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