[发明专利]柔性显示设备,及用于制造柔性显示设备的方法在审

专利信息
申请号: 201310484853.2 申请日: 2013-10-16
公开(公告)号: CN104103775A 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 金锺允;金珍泽 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32;H01L21/77
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 余朦;杨莘
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 柔性 显示 设备 用于 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明的实施方式的方面涉及柔性衬底、柔性显示设备、以及用于制造柔性显示设备的方法。更具体地,本发明的实施方式大体上涉及包括有机材料的柔性衬底、柔性显示设备、以及用于制造柔性显示设备的方法。

背景技术

显示设备是显示图像的装置。近来,有机发光二极管显示器已经引起了人们的注意。

有机发光二极管显示器具有自发光特征,并且不同于液晶显示器,有机发光二极管显示器不需要单独的光源,所以有机发光二极管显示器可具有相对小的厚度和低的重量。另外,有机发光显示设备展现出高质量以及诸如低功耗、高亮度、以及快速反应速度等期望的特性。

通常,有机发光二极管(OLED)显示器包括:衬底、位于衬底上的有机发光二极管、以及与衬底一起密封有机发光二极管的封装层。

近来,已经开发了包括由诸如聚酰亚胺的有机材料制成的柔性衬底的柔性显示设备。

通过在支承衬底(如玻璃)上形成柔性衬底、在柔性衬底上形成有机发光二极管和封装层、以及从支承衬底剥离柔性衬底来制造柔性显示设备。

然而,由于当柔性衬底从支承衬底剥离时形成并释放的静电,传统的柔性显示设备会损坏形成在柔性衬底上的有机发光二极管。

背景部分中公开的以上信息仅用于增强对本发明背景的理解,因此其可以包括不形成在该国中对本领域的普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本发明的实施方式的方面涉及用于制造用于控制静电的产生的柔性衬底的方法、柔性显示设备、以及制造柔性显示设备的方法。

本发明的一个示例性实施方式提供一种柔性衬底,其包括:柔性衬底主体,包括有机材料;多个分离图案,分布在柔性衬底主体的一侧上;以及分离沟槽,位于柔性衬底主体的上述一侧上并与分离图案至少之一邻近,分离沟槽从柔性衬底主体的一侧的表面凹陷。

分离图案可包括聚氧化铟锡(poly-ITO)。

分离模式可嵌入柔性衬底主体。

有机材料可包括聚酰亚胺。

另一实施方式提供了一种柔性显示设备,其包括:根据上述实施方式的柔性衬底;以及设置在柔性衬底上并配置成显示图案的显示器。

显示器可包括有机发光二极管。

又一实施方式提供了一种用于制造柔性显示设备的方法,其包括:在支承衬底上形成分离层;在分离层上形成光敏图案;使用作为掩模的光敏图案刻蚀分离层,以形成对应于光敏图案的支承图案和多个分离图案,该多个分离图案至少之一与支承图案邻近并分布在支承衬底上;移除光敏图案;将有机材料应用至支承衬底,以形成覆盖支承图案和分离图案的柔性衬底主体;在柔性衬底主体上形成显示器,该显示器配置成显示图像;以及使柔性衬底主体与支承衬底分离。

形成分离层可包括使非晶氧化铟锡(a-ITO)沉积在支承衬底上。

形成分离层可包括:使分离层形成为至厚,以及在分离层上形成聚氧化铟锡。

刻蚀分离层可包括使用干式刻蚀法,干式刻蚀法使用适于移除非晶氧化铟锡的蚀刻剂。

使柔性衬底主体与支承衬底分离可包括将柔性衬底主体从支承衬底剥离。

使柔性衬底主体从支承衬底分离可包括:使嵌入柔性衬底主体的分离图案与支承衬底分离;使柔性衬底主体与支承图案分离;以及在柔性衬底主体的一侧上形成分离沟槽,对应于支承图案,分离沟槽从柔性衬底主体的一个表面凹陷。

根据本发明的实施方式之一,提供了用于控制静电的产生的柔性衬底、柔性显示设备、以及用于制造柔性显示设备的方法。

附图说明

图1示出了根据本发明第一示例性实施方式的柔性显示设备的剖视图;

图2示出了根据本发明第一示例性实施方式的柔性显示设备的像素的配置的布局图;

图3示出了沿图2的线III-III截取的剖视图;

图4示出了用于制造根据本发明第二示例性实施方式的柔性显示设备的方法的流程图;

图5、图6、图7、图8、图9、图10、以及图11示出了用于制造根据第二示例性实施方式的柔性显示设备的方法。

具体实施方式

在下文中将参照示出本发明的示例性实施方式的附图更加全面地描述本发明的各种实施方式。如本领域技术人员可以理解的,本文中描述的实施方式可以以各种不同的方式进行修改,并且所有的这些实施方式都不背离本发明的精神或范围。

因此,附图和描述应认为实质上是说明性的而非限制性的,并且在整个说明书中相同附图标记表示相同元件。

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