[发明专利]沉积装置、薄膜形成方法和制造有机发光显示装置的方法

说明书

公开沉积装置、薄膜形成方法和制造有机发光显示装置的方法。一种用于通过使用关于基板的掩膜执行沉积过程的沉积装置包括：室；在所述室中的支撑单元，所述支撑单元包括第一孔并且被配置为支撑所述基板；供应单元，被配置为向所述基板供应至少一种沉积原材料；和通过所述支撑单元的所述第一孔的能移动的对齐单元，所述对齐单元被配置为支撑所述掩膜，并且将所述掩膜关于所述基板对齐。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2012年12月12日递交到韩国知识产权局的韩国专利申请No.10-2012-0144673的权益，其公开内容通过引用全部并入本文。

技术领域

示例实施例涉及沉积装置、使用沉积装置形成薄膜的方法和制造有机发光显示装置的方法。更具体而言，示例实施例涉及一种提供有效沉积过程和具有改进特性的沉积膜的沉积装置、使用该沉积装置形成薄膜的方法和制造有机发光显示装置的方法。

背景技术

半导体设备、显示设备和其它电子设备包括多个薄膜。各种方法可被用于形成多个薄膜，其中一种方法即为沉积方法。

沉积方法使用例如一种或多种气体等各种原材料来形成薄膜。沉积方法包括化学气相沉积（CVD）方法、原子层沉积（ALD）方法等。

在显示装置中，有机发光显示装置由于其宽视角、高对比性和快速反应速度而被期望成为下一代显示装置。传统的有机发光显示装置包括具有在彼此面对的第一电极和第二电极之间的有机发射层的中间层，还包括一个或多个具有不同特性的薄膜。在此情形下，使用沉积过程形成有机发光显示装置的薄膜。

发明内容

示例实施例提供一种可被用于有效地执行沉积过程以便容易地改进沉积膜的特性的沉积装置、使用该沉积装置制造薄膜的方法，和制造有机发光显示装置的方法。

根据示例实施例的方面，提供一种用于通过使用与基板有关的掩膜执行沉积过程的沉积装置，所述沉积装置包括：室；在所述室中的支撑单元，包括第一孔并且被配置为支撑所述基板；供应单元，被配置为向所述基板供应至少一种沉积原材料；和通过所述支撑单元的所述第一孔的能移动的对齐单元，所述对齐单元被配置为支撑所述掩膜，并且将所述掩膜与所述基板对齐。

所述沉积装置可进一步包括对齐确认构件，所述对齐确认构件被配置为通过所述支撑单元中的第二孔确认所述基板和所述掩膜的对齐状态。

所述对齐确认构件可被配置为检查所述基板上的对齐标记与所述掩膜上的对齐标记的对齐，以便确认所述基板和所述掩膜的对齐状态。

所述支撑单元中的所述第二孔可比所述第一孔更靠近所述支撑单元的中心区域。

所述对齐确认构件可比所述支撑单元更远离所述供应单元。

所述支撑单元可位于所述对齐确认构件与所述供应单元之间。

所述室可包括与所述第二孔重叠的透明窗，所述对齐确认构件被配置为通过所述透明窗确认所述基板和所述掩膜的对齐状态。

所述对齐单元的横截面积可小于所述第一孔的尺寸，所述对齐单元在所述第一孔中能三维移动。

所述对齐单元可被配置为支撑所述掩膜的同时在所述第一孔内竖直和水平地移动。

所述支撑单元的上表面可为弯曲的。

所述支撑单元的所述上表面的中心区域可相对于所述支撑单元的所述上表面的端部区域向上凸出。

所述支撑单元的下表面根据所述支撑单元的所述上表面的曲度而被弯曲。

所述支撑单元的下表面可为平的。