[发明专利]增印保护膜有效
申请号: | 201310467015.4 | 申请日: | 2013-10-09 |
公开(公告)号: | CN104553101A | 公开(公告)日: | 2015-04-29 |
发明(设计)人: | 金闯;张庆杰 | 申请(专利权)人: | 苏州斯迪克新材料科技股份有限公司 |
主分类号: | B32B5/00 | 分类号: | B32B5/00;B32B27/10;B32B37/14 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 马明渡;王健 |
地址: | 215400 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 保护膜 | ||
技术领域
本发明涉及一种保护膜,特别涉及一种增印保护膜。
背景技术
薄膜面板例如手机触摸按键,薄膜开关等产品在搬运和使用过程中,其表面容易受到接触性污染或磨痕划伤,通常采用保护膜覆盖在其表面使之免受损伤和污染。保护膜一般由基材层和涂覆在该基材层上的胶粘剂层构成。当保护膜用来保护各种薄膜面板例如手机触摸按键,薄膜开关等产品的表面时,需要在保护膜上印刷文字、图案等,传统的保护膜一般都没有经过耐磨增印处理,因此很难在保护膜上进行印刷作业;其次,增印保护膜中离型纸与涂覆有高粘度粘合剂的贴膜贴附时,容易导致离型纸上的离型剂涂层被粘附力更大的粘合剂带走,从而在贴膜的局部表面形成难以清理掉的离型剂涂层区域,破坏了贴膜整体的纯净、一致性。
发明内容
本发明提供一种增印保护膜,该增印保护膜使得有机硅胶面雾度效果好,使得胶面达到低反光效果;且提高了与离型剂涂层接触的雾面涂层表面粗糙度均匀性,解决离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不稳定的技术问题,有利于剥离以及避免残留压敏胶和将离型剂残留于压敏胶层上。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:一种增印保护膜,包括一基材层,此基材层上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层,此基材层下表面通过有机硅压敏胶层与一雾面离型纸粘合连接,所述雾面离型纸由第一淋膜层、离型纸原纸层、第二淋膜层、雾面涂层和离型剂涂层依次层叠构成,所述雾面涂层朝向所述离型剂涂层的表面的表面粗糙度为2.821um~3.324um;所述制备工艺主要由下列步骤组成:
第一步:在离型纸原纸的两侧表面,用淋膜机各淋膜一层淋膜层,然后冷却;
第二步:在任意一淋膜层上涂覆一层厚度为0.2~2微米的雾面涂层剂,该雾面涂层剂进一步通过以下工艺获得:
步骤1. 将0.3~1份纳米SiO2粉体、0.2~0.6份纳米Al2O3粉体和0.3~1份硅烷偶联剂加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液;
步骤2. 将100份乙烯基硅氧烷、0.3~1份含氢硅氧烷加入120~150份丁酮中进行机械搅拌获得聚合物溶液;
步骤3. 将步骤1的预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波搅拌,从而获得调制后的聚合物溶液;
步骤4. 在所述调制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份铂金并依次进行机械搅拌和超声波搅拌获得所述雾面离型溶剂;
第三步:将离型纸的雾面涂层剂通过烘烤进行聚合反应得到雾面涂层;
第四步:在所述雾面涂层的表面涂覆一层离型剂涂层。
上述技术方案中进一步改进的技术方案如下:
1. 上述方案中,所述纳米SiO2粉体的直径范围为10~15nm,所述纳米Al2O3粉体的直径范围为25~35nm。
2. 上述方案中,所述第一、第二淋膜层的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯或者聚氯乙烯。
由于上述技术方案运用,本发明与现有技术相比具有下列优点和效果:
本发明增印保护膜,特定直径和含量的纳米SiO2粉体、纳米Al2O3粉体在溶剂下与硅烷偶联剂经超声波共同作用,且机械搅拌和超声波搅拌组合,有利于纳米SiO2粉体、Al2O3粉体呈均匀分布,特定的聚合物溶液和预分散液采用不同的溶剂,降低纳米SiO2粉体、Al2O3颗粒的表面能,进一步利于粉体颗粒在溶剂中的分散,提高了与离型剂涂层接触的雾面涂层表面粗糙度均匀性,解决离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不稳定的技术问题,有利于剥离以及避免残留压敏胶和将离型剂残留于压敏胶层上。
附图说明
附图1为本发明增印保护膜结构示意图;
附图2a为现有增印保护膜中雾面涂层微观形貌SEM测试图;
附图2b为本发明增印保护膜中雾面涂层微观形貌SEM测试图。
以上附图中:1、基材层;2、增印涂层;3、有机硅压敏胶层;4、雾面离型纸;5、第一淋膜层;6、离型纸原纸层;7、第二淋膜层;8、雾面涂层;9、离型剂涂层。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本发明作进一步描述:
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