[发明专利]一种航天大豆栽培技术

权利要求书

1.一种航天大豆栽培技术，包括选地、种植和田间管理，其特征在于所述的种植包括耕前施肥、起垄覆膜、种子处理、播种和密植，所述的种子处理是包括如下步骤：晒种，在贮藏条件差或种子含水量较高的情况下，播种前应晒种2～3天，以提高出芽率；拌种，一是进行根瘤菌拌种，在新开垦地、重迎茬地或多年未种过大豆的地块，每亩大豆种子用根瘤菌剂500克，二是微肥拌种，根据土壤微量元素缺乏情况，可用钼酸铵、硼砂拌种，钼酸铵拌种用量为每千克大豆种子拌钼酸铵2～4克；用硼砂拌种时，每千克大豆种子拌硼砂1～3克。

2.根据权利要求1所述的航天大豆栽培技术，其特征在于所述的耕前施肥是指耕前每亩撒施土杂肥1000～1500kg、碳酸氢铵30kg；过磷酸钙50kg、硫酸钾10kg、辛硫磷颗粒农药1.5kg，耕后耙平耙细地面。

3.根据权利要求1所述的航天大豆栽培技术，其特征在于所述的起垄覆膜是指前一年汛期结束、前茬收后或当年早春，在一次施足肥料和深耕整地的基础上，按垄距90cm、垄高10～15cm、垄顶呈弧形的规格起垄，垄顶加盖90cm宽、0.007～0.008mm厚的黑色地膜，地膜要紧贴垄面，两边要垂直埋入垄边土下，垄顶膜上要压土带防风揭膜。

4.根据权利要求1所述的航天大豆栽培技术，其特征在于所述的播种和密植是指当5cm土层的日平均温度稳定达到10～12℃时播种最适宜；密植是指播种时，在覆膜的垄上，按小行距30cm，平均行距45cm，穴距30cm，两行间调角打穴，穴深3～4cm，每穴播1～2粒种子；当大豆两瓣夹一心至第一片复叶展开时进行定苗，每穴选留一株。

5.根据权利要求1所述的航天大豆栽培技术，其特征在于所述的田间管理包括：大豆分枝期或初花期，每亩用5％烯效唑可湿性粉剂20～40克或15％多效唑可湿性粉剂50～80克，兑水40～50千克，均匀喷施茎叶，防止旺长与倒伏；叶面施肥，开花、结荚期施叶面肥，叶面肥的配方浓度为：尿素0.1％～0.2％，磷酸二氢钾0.1％，硼砂0.1％～0.2％，钼酸铵0.05％，每次每亩喷施混合肥液50kg～60kg；可酌情喷施两次，间隔5～7天；特抗活力素叶面肥、底肥：可拌种、做底肥、叶面喷施。