[发明专利]溅镀磁控管和动态影响磁场的方法

权利要求书

1.一种用于涂覆衬底（3）的溅镀磁控管，包括：

·靶（1）和磁体系统（4），其中所述靶（1）和磁体系统（4）能够被相对彼此移置，并且所述磁体系统（4）形成穿透所述靶（1）的磁场，

·其中所述磁体系统（4）具有支撑设备（41）、其上布置有磁体（43）的支撑板（42）、和致动器（51），并且所述支撑设备（41）借助所述致动器（51）能够连接至所述支撑板（42），以便能够至少分段设置所述磁体系统（4）和所述靶（1）之间的距离，

·冷却回路，用于借助冷却剂冷却磁体布置（43）和所述靶（1），

·层测量工具（6），用于获得沉积在所述衬底（3）上的至少一层的层特性的数据，以及

·磁体系统控制器（7），用于评估所获得的数据、并且用于生成操纵变量（8），其中所述操纵变量（8）是所述致动器（51）的输入变量。

2.根据权利要求1所述的溅镀磁控管，其中能够在所述磁体系统控制器（7）和所述致动器（51）之间建立用于信息交换的无接触连接。

3.根据权利要求2所述的溅镀磁控管，其中所述致动器（51）具有至少一个公共信息接收和信息发送单元（52）、以及公共控制单元。

4.根据权利要求2所述的溅镀磁控管，其中所述致动器（51）具有至少一个公共信息接收和信息发送单元（52），并且每个致动器（51）都包括分立的控制单元。

5.根据上述权利要求之一所述的溅镀磁控管，其中所述致动器（51）被来自所述冷却回路的冷却剂包围。

6.根据上述权利要求之一所述的溅镀磁控管，其中借助冷却剂中的调制的声音、调制的光、调制的液压冲击、或者借助用于致动簧片开关的脉动磁体来构造所述无接触信息交换。

7.根据权利要求6所述的溅镀磁控管，其中用于信息交换的无接触手段也能够被组合使用。

8.根据上述权利要求之一所述的溅镀磁控管，其中所述致动器（51）被实施为压电陶瓷致动器和/或压电超声波马达。

9.根据上述权利要求之一所述的溅镀磁控管，其中所述致动器（51）具有自给能量供应。

10.一种在用于涂覆衬底（3）的溅镀磁控管的运行期间动态地影响磁场的方法，其磁体系统（4）能够借助致动器（51）相对于靶（1）被移置，并且所述磁体系统（4）形成穿透所述靶（1）的磁场，所述方法包括下列方法步骤：

·在涂覆所述衬底期间和/或之后，通过层测量工具（6）获得沉积在所述衬底（3）上的至少一层的层特性的数据，

·借助磁体系统控制器（7）评估所获得的数据，以便能够基于所获得的数据与来自具有最佳质量的层的基准数据之间的比较结果，来确定沉积在所述衬底（3）上的所述层的层特性的偏离，以及

·所述磁体系统控制器（7）生成操纵变量（8）作为所述致动器（51）的输入变量，以便借助所述致动器（51）使所述磁体系统（4）和所述靶（1）之间的距离的变化对磁场的影响达到使所获得的数据与所述基准数据之间的偏离最小化的程度。