[发明专利]高效陶瓷抛光液及其制备方法无效
申请号: | 201310460945.7 | 申请日: | 2013-09-30 |
公开(公告)号: | CN103484026A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 孙韬;周涛 | 申请(专利权)人: | 江苏中晶科技有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 北京立成智业专利代理事务所(普通合伙) 11310 | 代理人: | 张江涵 |
地址: | 213000 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高效 陶瓷 抛光 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及对陶瓷,尤其是氧化物陶瓷,特别是氧化锆陶瓷的抛光技术,更具体的,本发明涉及一种抛光液及其制备方法,特别涉及一种高效陶瓷抛光液及其制备方法。
背景技术
当前市场上没有专门用于陶瓷表面的抛光液,尤其是氧化锆陶瓷表面的抛光液。氧化锆表面可以采用市场上销售的硅溶胶进行抛光加工,得到光滑的表面,但是抛光效率低,表面容易出现波纹以及微小斑点。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种高效陶瓷抛光液,该陶瓷抛光液通过适当的pH值控制,保证陶瓷表面电荷性能稳定,实现最优化的抛光效率;采用合理的络合剂以及表面活性剂原料增强抛光液的平化效率,消除表面波纹现象以及微小半点。其抛光效率高、抛光寿命长,使陶瓷的抛光表面光滑、质量高,尤其适用于氧化锆陶瓷表面的抛光。
为实现上述发明目的,本发明采用如下技术方案:
高效陶瓷抛光液,有效成份包括纳米硅溶胶,络合剂及表面活性剂,pH调节剂,抛光液的pH=3.0–9.0。
优选的,抛光液的pH=4.0-6.0。
为了进一步提高产品的性能,所述纳米硅溶胶、络合剂和表面活性剂分别占抛光液总质量的0.5%~40%、0.001%-5%、0.0002%~1.0%。
所述纳米硅溶胶的粒径为3~300纳米。
优选的,所述纳米硅溶胶的粒径为20~200纳米。
硅溶胶粒度分布呈非高斯分布,(D100-D80)/(D100-D0)<0.15。
优选的,0.05≤(D100-D80)/(D100-D0)≤0.12。
所述表面活性剂为含磷聚合物,有机羟基聚醚,含氮表面活性剂,有机聚硅氧烷聚合物中的一种或其任意组合的混合物。
PH调节剂选自硝酸,硫酸,盐酸,磷酸中的一种。
本发明的另一个目的是提供一种上述高效陶瓷抛光液的制备方法,该制备方法操作简单、合理,易于生产,产品稳定性好。
为实现上述发明目的,本发明采用如下技术方案:
先将粒径为3~300nm的纳米硅溶胶颗粒悬浮在水中,再加表面活性剂到悬浮液中,最后将悬浮液的pH值调整到3.0~9.0。
投料时,纳米硅溶胶、络合剂和表面活性剂分别占抛光液总质量的0.5%~40%、0.001%-5%、0.0002%~1.0%。
本发明的有益效果:该陶瓷抛光液通过合适的pH值来控制抛光液的电导率其实现最优化的抛光性能,采用合理的原料通过化学增强法提高切削速率,配合表面活性剂增强抛光液的平化效率,有机地改进流体力学性能。其抛光效率高、抛光寿命长,使陶瓷的抛光表面光滑、质量高,尤其适用于氧化锆陶瓷表面的抛光。
具体实施方式
本发明提供一种高效陶瓷抛光液,其有效成份包括粒径为3~300nm的纳米硅溶胶,络合剂及表面活性剂,pH调节剂,其中抛光液的pH=3.0-9.0,硅溶胶粒度分布呈非高斯分布,(D100-D80)/(D100-D0)<0.15。
其制备过程是先将粒径为纳米硅溶胶颗粒悬浮在水中,再加入络合剂,表面活性剂到悬浮液中,最后将悬浮液的pH值调整到3.0~9.0。
其中表面活性剂为含磷聚合物,有机羟基聚醚,含氮表面活性剂,有机聚硅氧烷聚合物中的一种或其任意组合的混合物,如十二烷基磷酸钠,聚甲基硅氧烷醚,三甲基十六烷基氯化铵,有机聚硅氧烷,十六烷基磺酸钠,这些表面活性剂可单独使用,也可以任意组合使用。络合剂则包含丙氨酸,EDTA,酒石酸,柠檬酸,聚丙烯酸,二乙醇胺,海藻酸等任意可适用的络合剂。
以下结合具体实施例对本发明做进一步详细说明。
实施例1:
制备七份抛光液A,B,C,D,E,F,G:
称取200克、粒径约60nm、固含量50%的硅溶胶,加入适量水中,室温下搅拌均匀,再添加10克丙氨酸、1.0克的十二烷基磷酸钠,形成基液。共配置7份相同的基液,最后用硫酸分别将基液的pH调到2.0,3.0,4.0,6.0,8.0,9.0,10.0,配成七份各1000克的陶瓷抛光液A,B,C,D,E,F,G。
抛光液H的制备:称取200克、粒径约60nm、固含量50%的硅溶胶,加入799克水中,室温下搅拌均匀,最后用硫酸将pH调到6.0。
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