[发明专利]时间门控宽场受激辐射超分辨显微方法及装置

权利要求书

1.一种时间门控宽场受激辐射超分辨显微方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）激发光经显微物镜投射在位于纳米水平位移台的待测样品之上，对所述的待测样品进行宽敞激发发出荧光；

2）损耗光通过光束调制模块进行调制后，同样经所述的显微物镜投射到所述的待测样品上，形成暗斑阵列状照明光斑，对宽敞激发区域进行受激辐射损耗；

3）所述待测样品在受激辐射损耗后发出的荧光由显微物镜收集，并通过聚焦投射到光电感应器件上，得到待测样品的荧光图像；

4）移动所述的纳米水平位移台，并重复步骤1）～3），对待测样品进行水平二维扫描，得到与各扫描位置相对应的荧光图像；

5）对所得到的各幅荧光图像进行平移、叠加处理，最终恢复出待测样品的二维超分辨图像。

2.如权利要求1所述的时间门控宽场受激辐射超分辨显微方法，其特征在于，所述的光束调制模块为依次布置的损耗光光路上的两个渥拉斯顿棱镜。

3.如权利要求1所述的时间门控宽场受激辐射超分辨显微方法，其特征在于，所述的光束调制模块为用于对所述损耗光进行位相编码的空间光调制器。

4.如权利要求1所述的时间门控宽场受激辐射超分辨显微方法，其特征在于，在步骤3）中，在采集所述荧光图像时，对光电感应器件的成像设置时间门控进行探测延时。

5.如权利要求1所述的时间门控宽场受激辐射超分辨显微方法，其特征在于，所述的光电感应器件为ICCD。

6.一种时间门控宽场受激辐射超分辨显微装置，其特征在于，包括：

布置在激发光光路上的第一透镜，

沿损耗光光路依次布置的光束调制模块和第二透镜，

用于承载荧光样品的纳米水平位移台，

用于将所述激发光光路和损耗光光路的光线投射至待测样品的投射装置，

以及检测所述待测样品发光的探测成像系统。

7.如权利要求6所述的时间门控宽场受激辐射超分辨显微装置，其特征在于，所述的光束调制模块为依次布置的损耗光光路上的两个渥拉斯顿棱镜。

8.如权利要求6所述的时间门控宽场受激辐射超分辨显微装置，其特征在于，所述的光束调制模块为用于对损耗光进行位相编码的空间光调制器。

9.如权利要求6所述的时间门控宽场受激辐射超分辨显微装置，其特征在于，所述的投射装置包括第一二色镜、第二二色镜和显微物镜；

第一二色镜用于使激发光反射，同时使待测样品发出的荧光透射；

第二二色镜用于使激发光透射，使损耗光束反射，同时使待测样品发出的荧光透射；

显微物镜用于将激发光和损耗光投射到待测样品之上，同时用于收集待测样品所发出的荧光。

10.如权利要求6所述的时间门控宽场受激辐射超分辨显微装置，其特征在于，所述的探测成像系统包括场镜和光电感应器件；场镜用于将荧光光束投射到光电感应器件上；所述光电感应器件用于收集荧光并得到相应的荧光图像。