[发明专利]多层陶瓷的膜厚测定方法

说明书

技术领域

本发明涉及对多层陶瓷所包含的各层的膜厚进行测定的方法。

背景技术

近年来，将多个陶瓷层层叠而成的多层陶瓷用作电容器、基板等电子部件。多层陶瓷通过对层叠的多个陶瓷层进行压接、加热而形成。

若为将各种材料层叠而形成的通常的多层膜，则每层都具有不同的折射率等物性，因此能够利用该物性的差异来获得各层的膜厚。相对于此，尤其对使用相同材料但气孔率（还称作孔隙率）变化的多个陶瓷层进行层叠而形成的多层陶瓷中，由于各层的物性近似，因此多数情况下难以如以往那样通过依据各层的物性的方法进行膜厚测定。另外，在相同的材料、且在膜厚方向上气孔率变化的多层陶瓷中，将具有规定范围的气孔率的区域作为一个层。

多层陶瓷的各层的膜厚（具有在各层上设定的规定范围的气孔率的区域的膜厚）在进行包括多层陶瓷的产品的检查或评价的方面可能成为重要的指标，因此要求能够适用于多层陶瓷的膜厚测定方法。

专利文献1记载了一种膜厚测定方法，通过使用超声波，无破坏地测定多层陶瓷的膜厚。

专利文献

专利文献1：日本特开2004-333366号公报

专利文献1所记载的膜厚测定方法中，利用表面波进行膜厚测定，因此只能测定位于表面的陶瓷层的膜厚。因此，不能测定多层陶瓷所具有的各层的膜厚。

除此之外，可以考虑通过使用了电子显微镜等观察来测定多层陶瓷的各层的膜厚的方法，但是该方法需要破坏试样，因此在时间或成本方面不利，并且不能对要出厂的产品进行评价。

发明内容

目前，还为知晓能够以非接触且无破坏地计算多层陶瓷所包含的各层膜厚的技术。本发明的目的在于提供一种能够以非接触且无破坏地测定多层陶瓷所包含的各层膜厚的膜厚测定方法。

为了达成这样的目的，本发明一方案的膜厚测定方法，其特征在于，包括如下工序：产生太赫兹波；将所述太赫兹波照射到具有两个以上陶瓷层的多层陶瓷；获得由所述多层陶瓷反射的所述太赫兹波的时间波形；以及根据所述时间波形，测定所述陶瓷层的膜厚。

发明效果

根据本发明的膜厚测定方法，能够以非接触且无破坏地测定多层陶瓷所包含的各层的膜厚。

附图说明

图1是本发明的一个实施方式的多层陶瓷的检查装置的框图。

图2是本发明的一个实施方式的光学装置的概略结构图。

图3是本发明的一个实施方式的控制装置的框图。

图4是包括多层陶瓷的试样的剖视图。

图5是峰值图案的一例的图。

图6是表示本发明的一个实施方式的多层陶瓷的膜厚测定方法的流程的图。

图7是表示本发明的一个实施方式的膜厚测定处理的流程的图。

图8是表示本发明的一个实施方式的峰值检测处理的流程的图。

图9是表示本发明的一个实施例的太赫兹波的波形数据的图。

图10是表示本发明的一个实施例的膜厚测定结果的图。

其中，附图标记说明如下：

1检查装置

2光学装置

3试样

4锁定放大器

5控制装置

10飞秒光纤激光器

11二向色镜（分波器）

12斩波器（调制器〉

13、26镜

14抛物面镜

15DAST（太赫兹波发生器）

16、17、18、20离轴抛物面镜（照射光学系统）

19光圈

22太赫兹波检测器

23聚光透镜

25光学延迟部

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施方式，但本发明并不限定于本实施方式。另外，以下说明的附图中，对具有相同功能的部分赋予相同的附图标记，并省略其重复的说明。

（实施方式）

图1是本实施方式的多层陶瓷的检查装置1的框图。另外，在本说明书的附图中，虚线表示激光或者太赫兹波（terahertz wave）所通过的光路，实线表示物理上的连接关系。此外，在一部分线上附加了表示通过此处的光或电信号的行进方向的箭头。

检查装置1具备：光学装置2，向具有多层陶瓷的试样3照射太赫兹波，并且检测反射波；锁定放大器4（lock in ampli），对反射波的检测信号进行同步放大；以及控制装置5，对光学装置2进行控制。光学装置2具备激光器10、分波器11、调制器12、太赫兹波发生器15、太赫兹检测器22、光学延迟部25。