[发明专利]光酸发生剂以及包含该光酸发生剂的抗蚀剂组合物

权利要求书

1.下述化学式1的光酸发生剂：

[化学式1]

所述化学式1中，

所述Q₁和Q₁’是各自独立为卤素基；

所述Q₂和Q₂’是各自独立为氢原子或卤素基；

所述R是氢原子或碳原子数为1-4的烷基；

所述V₁和V₂是各自独立为氧原子(O)或硫原子(S)；

所述W₁和W₂各自独立地选自碳原子数为1-10的烷基、碳原子数为3-30的环烷基、碳原子数为3-30的芳基、碳原子数为1-10的烷氧基以及它们的组合所组成的组中；

所述X选自亚烷基、亚烯基、NR'、S、O、CO以及它们的组合所组成的组中，所述R'是氢原子或碳原子数为1-4个的烷基；

所述a是1至4的整数，b是0至5的整数，c是1至3的整数，d是1至3的整数；

所述A+是有机抗衡离子。

2.根据权利要求1所述的光酸发生剂，其中，所述X为羰基。

3.根据权利要求1所述的光酸发生剂，其中，

所述Q₁和Q₁’是各自独立为氟基；

所述Q₂和Q₂’是各自独立为氢原子或氟基；

所述R是氢原子或甲基；

所述V₁和V₂是各自独立为氧原子或硫原子；

所述W₁和W₂各自独立地选自由甲基、乙基、环丙基、苯基、甲氧基以及乙氧基所组成的组中；

所述X是羰基；

所述a是1至3的整数，b是0至2的整数，c是1或2的整数，d是1或2的整数。

4.根据权利要求1所述的光酸发生剂，其中，

所述化学式1中的阴离子部分选自下述化学式2a至2f所组成的组中：

[化学式2a]

[化学式2b]

[化学式2c]

[化学式2d]

[化学式2e]

[化学式2f]

5.根据权利要求1所述的光酸发生剂，其中，

所述A+是选自由硫类、碘类、磷类、重氮盐类、吡啶嗡类及酰亚胺类所组成的组中的有机抗衡离子。

6.根据权利要求1所述的光酸发生剂，其中，

所述A+是下述化学式3a或3b表示的有机抗衡离子，

[化学式3a]

[化学式3b]

所述化学式3a和3b中，

所述X₁、X₂、Y₁及Y₂是各自独立地选自氢原子、碳原子数为1-10的烷基、烯丙基、碳原子数为1-10的全氟烷基、苄基、碳原子数为6-30的芳基以及它们的组合所组成的组中的任一个，所述X₁和X₂及Y₁和Y₂可以彼此连接形成碳原子数为3-30的饱和或不饱和烃环；

X₃、X₄、X₅、Y₃、Y₄和Y₅是各自独立地选自氢原子、碳原子数为1-30的烷基、卤素基、碳原子数为1-30的烷氧基、碳原子数为6-30的芳基、硫代苯氧基、碳原子数为1-30的硫代烷氧基、碳原子数为1-20的烷氧基羰基甲氧基以及它们的组合所组成的组中的任一个。

7.根据权利要求1所述的光酸发生剂，其中，

所述A+是具有下述化学式4a至4v表示的结构的有机抗衡离子：