[发明专利]一种有机电致发光器件及其制备方法无效
申请号: | 201310451402.9 | 申请日: | 2013-09-27 |
公开(公告)号: | CN104518136A | 公开(公告)日: | 2015-04-15 |
发明(设计)人: | 周明杰;钟铁涛;王平;陈吉星 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有机 电致发光 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种有机电致发光器件,包括依次层叠的阳极导电基板、发光功能层、阴极层和封装层,其特征在于,所述封装层包括依次叠层设置的中间层、金属硼化合物层、有机硅化合物层和聚对苯二甲酸乙二酯膜层,所述聚对苯二甲酸乙二酯膜层和所述阳极导电基板形成封闭空间,所述发光功能层、阴极层、中间层、金属硼化合物层和有机硅化合物层容置在所述封闭空间内,所述中间层的材质为酞菁铜、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、8-羟基喹啉铝、氧化硅、氟化镁或硫化锌,所述有机硅化合物层的材质为聚[(3-(二(三氟甲基)(甲氧基)硅基)丙基)二(三氟甲基)(甲基)硅烷]、聚[(3-(二(五氟乙基)(甲氧基)硅基)丙基)二(五氟乙基)(甲基)硅烷]或聚[(3-(二(七氟丙基)(甲氧基)硅基)丙基)二(七氟丙基)(甲基)硅烷]。
2.如权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述金属硼化合物层的材质为二硼化铝、六硼化镧、二硼化钒、硼化铌、二硼化钛或硼化钼,所述金属硼化合物层的厚度为100nm~150nm。
3.如权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述中间层的厚度为200~300nm。
4.如权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述有机硅化合物层的厚度为1~1.5μm。
5.如权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述发光功能层包括依次层叠的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层。
6.一种有机电致发光器件的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)在洁净的导电基板上制备有机电致发光器件的阳极图形形成阳极导电基板;采用真空蒸镀的方法在阳极导电基板上制备发光功能层和阴极层;
(2)在阴极层上制备封装层,制备方法如下:
(a)在阴极层上制备中间层:
通过真空蒸镀的方法在所述阴极层上制备中间层,所述中间层的材质为酞菁铜、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、8-羟基喹啉铝、氧化硅、氟化镁或硫化锌,所述真空蒸镀的真空度为3×10-5Pa~8×10-3Pa,蒸发速度
(b)在中间层上制备金属硼化合物层:
通过磁控溅射的方法在所述中间层上制备金属硼化合物层,所述磁控溅射过程中的本底真空度为1×10-5Pa~1×10-3Pa;
(c)有机硅化合物层和聚对苯二甲酸乙二酯膜层的制作:
取聚对苯二甲酸乙二酯膜层,在惰性气体条件下,在所述聚对苯二甲酸乙二酯膜层上旋涂2,2,6,6-四(三氟甲基)-1,2,6-氧杂二硅氧烷、2,2,6,6-四(五氟乙基)-1,2,6-氧杂二硅氧烷或2,2,6,6-四(七氟丙基)-1,2,6-氧杂二硅氧烷,然后采用紫外光进行固化处理,得到有机硅化合物层,所述有机硅化合物层设置在所述聚对苯二甲酸乙二酯膜层上,所述有机硅化合物层的材质为聚[(3-(二(三氟甲基)(甲氧基)硅基)丙基)二(三氟甲基)(甲基)硅烷]、聚[(3-(二(五氟乙基)(甲氧基)硅基)丙基)二(五氟乙基)(甲基)硅烷]或聚[(3-(二(七氟丙基)(甲氧基)硅基)丙基)二(七氟丙基)(甲基)硅烷],所述聚苯二甲酸乙二酯膜层的材质为聚苯二甲酸乙二酯,其中,所述采用紫外光进行固化处理的过程中,光强为10~15mW/cm2,曝光时间为200~300s;
(d)在金属硼化合物层上覆盖有机硅化合物层和聚对苯二甲酸乙二酯膜层:
将步骤(c)所得的含有机硅化合物层的聚对苯二甲酸乙二酯膜层覆盖在步骤(b)所述金属硼化合物层上,然后在所述聚对苯二甲酸乙二酯膜层的边缘涂布光固化粘合剂,再采用紫外光进行固化处理,得到有机电致发光器件,所述有机电致发光器件包括依次层叠的阳极导电基板、发光功能层、阴极层和封装层,所述封装层包括依次叠层设置的中间层、金属硼化合物层、有机硅化合物层和聚对苯二甲酸乙二酯膜层,所述聚对苯二甲酸乙二酯膜层和所述阳极导电基板形成封闭空间,所述发光功能层、阴极层、中间层、金属硼化合物层和有机硅化合物层容置在所述封闭空间内,在所述采用紫外光进行固化处理的过程中,光强为10~15mW/cm2,曝光时间为300~400s,所述光固化粘合剂涂布的厚度为1~1.5μm。
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