[发明专利]电光学装置、电光学装置用基板及电子设备

权利要求书

1.一种电光学装置，其特征在于，包含：

第1基板；

第2基板，其与所述第1基板对置地配置，使光透过；

液晶，其配置在所述第1基板与所述第2基板之间；

第1电极，其配置在所述第1基板与所述液晶之间，对光进行反射；

第2电极，其配置在所述第2基板与所述液晶之间，使光透过；

第1电介质层，其配置在所述第1电极与所述液晶之间；和

第2电介质层，其配置在所述第2电极与所述液晶之间，

所述第1电介质层，包含具有第1折射率的第1折射率层和具有比所述第1折射率大的第2折射率的第2折射率层，

所述第1折射率层配置在所述第2折射率层与所述第1电极之间。

2.根据权利要求1所述的电光学装置，其特征在于，

还包含配置在所述第1电介质层与所述液晶之间的第1取向膜。

3.根据权利要求1或2所述的电光学装置，其特征在于，

还包含配置在所述第2电介质层与所述液晶之间的第2取向膜。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的电光学装置，其特征在于，

所述第1电极是像素电极，

所述第2电极是公共电极。

5.根据权利要求4所述的电光学装置，其特征在于，

所述第1电极含有铝。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的电光学装置，其特征在于，

所述第1折射率不足1.7，所述第2折射率是1.7或1.7以上。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的电光学装置，其特征在于，

所述第1电介质层，将所述第1折射率层与所述第2折射率层的组层叠多个而形成。

8.根据权利要求4或5所述的电光学装置，其特征在于，

所述像素电极包含第1像素电极与第2像素电极，

在所述第1像素电极以及所述第2像素电极、与所述第1基板之间，配置有第1绝缘层，

在所述第1像素电极与所述第2像素电极之间，配置有第2绝缘层，

与所述第1像素电极、所述第2像素电极、以及所述第2绝缘层相接地配置所述第1折射率层。

9.根据权利要求8所述的电光学装置，其特征在于，

在所述第1绝缘层的开口配置有塞子，

所述第1像素电极，经由所述塞子与晶体管电连接。

10.一种电光学装置用基板，其特征在于，包含：

第1基板；

第1电极，其对光进行反射；和

第1电介质层，其被配置成覆盖所述第1电极，

所述第1电介质层，包含具有第1折射率的第1折射率层和具有比所述第1折射率大的第2折射率的第2折射率层，

所述第1折射率层配置在所述第2折射率层与所述第1电极之间。

11.根据权利要求10所述的电光学装置用基板，其特征在于，

还包含被配置成覆盖所述第1电介质层的第1取向膜。

12.根据权利要求10或11所述的电光学装置用基板，其特征在于，

所述第1电极是像素电极。

13.根据权利要求12所述的电光学装置用基板，其特征在于，

所述第1电极含有铝。

14.根据权利要求10～13中任一项所述的电光学装置用基板，其特征在于，

所述第1折射率不足1.7，所述第2折射率是1.7或1.7以上。

15.根据权利要求10～14中任一项所述的电光学装置用基板，其特征在于，

所述第1电介质层，将所述第1折射率层和所述第2折射率层的组层叠多个而形成。

16.根据权利要求12或13所述的电光学装置用基板，其特征在于，

所述像素电极包含第1像素电极与第2像素电极，

在所述第1像素电极以及所述第2像素电极、与所述第1基板之间，配置有第1绝缘层，

在所述第1像素电极与所述第2像素电极之间，配置有第2绝缘层，

与所述第1像素电极、所述第2像素电极、以及所述第2绝缘层相接地配置所述第1折射率层。