[发明专利]有机电致发光器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310450562.1 申请日: 2013-09-25
公开(公告)号: CN103490018A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 代青;刘则 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 有机 电致发光 器件 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种有机电致发光器件及其制备方法。

背景技术

有机电致发光器件的基本结构是两层电极中间夹有一层或者多层有机发光层。其中两层电极分别作为器件的阳极和阴极。电极可以采用金属或金属氧化物材料。在外加电压的作用下,载流子电子和空穴分别从阴极方向和阳极方向注入到有机发光层中,并相遇复合产生激子,激子的能量以光的形式衰减,从而辐射出光,实现电致发光的效果。在有机电致发光器件中,主要存在两个方面的能量损耗。第一,注入载流子在发光层中复合发光时,并不是所有能量均能转变为光子,其中一部分能量经过晶格振动、深能级杂质跃迁等辐射跃迁过程被损耗掉,该过程可用内量子效率描述。第二,辐射的光在阳极/基底、基底/空气等界面处发生全反射而无法折射出去,以及在阳极/有机发光层界面的波导模式损失以及金属电极附近的表面等离子损失等,使得大约仅20%左右的光能够透出器件用作显示,该过程可用外量子效率描述。

目前,人们尝试了多种方法来提高外量子效率,也即提高光的提取效率或者出光效率。例如通过在金属氧化物电极如ITO上制造表面微结构来减少波导模式损失,通过将光子晶体或微透镜阵列贴附到玻璃基底上减少全反射,制造褶皱的阴极以降低其表面等离子损失,以及利用光学微腔结构等。

这些技术虽然可以大幅度增加器件的出光效率,但往往存在弊端。例如,对于在阴极上形成周期性或准周期性微结构图形以及将光子晶体或微透镜阵列贴附到玻璃基底上等方法而言,其往往采用纳米影印技术,制备工艺和难度较大。而光学微腔效应容易造成发光颜色的偏离和可视角度变窄等问题。

发明内容

本发明的实施例的主要目的在于,提供一种能够提高外量子效率的有机电致发光器件。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

一种有机电致发光器件,包括像素界定层和发光结构,所述像素界定层中掺杂有纳米金属颗粒。

可选的,在所述纳米金属颗粒与发光结构中的发光分子之间设置有隔离层。

进一步可选的,所述隔离层为像素界定层的一部分,或者

所述隔离层与所述纳米金属颗粒构成独立的核-壳结构。

可选的,所述隔离层由绝缘介质构成。

可选的,所述纳米金属颗粒中的金属材料为:

金、银、铝中的一种;或者

金、银、铝的各自的合金中的一种;或者

由金、银、铝中的两种或三种构成的合金。

可选的,所述纳米金属颗粒的形状为球状、棱柱状、立方体状、笼状中的一种或几种。

可选的,所述纳米金属颗粒的粒径为1nm-100nm。

与上述有机电致发光器件相对应的,本发明还提供了一种有机电致发光器件的制备方法,包括像素界定层的制备方法,所述像素界定层的制备方法包括:

在设置有阳极的基底上形成掺杂有纳米金属颗粒的基质材料层;

通过构图工艺对所述基质材料层进行处理,得到所需形状的像素界定层。

可选的,所述在设置有阳极的基底上形成掺杂有纳米金属颗粒的基质材料层的步骤具体包括:

在设置有阳极的基底上形成第一基质材料层;

在所述第一基质材料层上溅射金属,形成分散排布的纳米金属颗粒;

在所述形成有分散排布的纳米金属颗粒的所述第一基质材料层上形成第二基质材料层。

可选的,所述在设置有阳极的基底上形成掺杂有纳米金属颗粒的基质材料层的步骤具体包括:

在设置有阳极的基底上同时溅射基质材料和纳米金属颗粒,形成掺杂有纳米金属颗粒的基质材料层。

可选的,在所述得到所需形状的像素界定层的步骤之后,还包括:

用腐蚀液浸泡所述所需形状的像素界定层,去除裸露在外的纳米金属颗粒。

可选的,所述基质材料为二氧化硅、氮氧化硅、氧化铝等。

可选的,所述在设置有阳极的基底上形成掺杂有纳米金属颗粒的基质材料层的步骤具体包括:

制备纳米金属颗粒;

将所述纳米金属颗粒与基质材料混合形成纳米金属颗粒的混合溶液;

将所述混合溶液涂覆在设置有阳极的基底上,形成掺杂有纳米金属颗粒的基质材料层。

可选的,所述基质材料为聚酰亚胺。

可选的,所述基质材料为SiO2凝胶。

可选的,在所述制备纳米金属颗粒的步骤之后,包括:

在所述纳米金属颗粒外围形成隔离层,所述隔离层与所述纳米金属颗粒构成独立的核-壳结构;

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