[发明专利]地下连续墙墙体水平位移监测方法有效

专利信息
申请号: 201310447112.7 申请日: 2013-09-27
公开(公告)号: CN103526782A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 李乐;郭凯;崔爱珍 申请(专利权)人: 中国建筑第八工程局有限公司
主分类号: E02D33/00 分类号: E02D33/00
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 曾耀先
地址: 200122 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 地下 连续 墙体 水平 位移 监测 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种建筑施工测量方法,尤指一种地下连续墙墙体水平位移监测方法。

背景技术

现阶段在深基坑施工中必须对地下连续墙进行围护结构变形监测,在此监测项目中目前使用比较普遍的技术是在地下连续墙中预埋PVC测斜管然后使用测斜仪对其进行墙体水平位移监测,一般要求预埋PVC测斜管的深度应深入地下连续墙底部,但在实际施工中由于PVC管接缝不严密、后期保护不到位等情况,导致预埋PVC测斜管内部发生堵塞从而造成测斜仪探头无法下放至设计基准深度,而测斜仪工作原理是以设计基准深度为基准点然后分段测斜累加最终得到墙体总体变形曲线,基准点变浅导致在累加过程中监测数据出现整体性偏差。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的局限,而提供一种地下连续墙墙体水平位移监测方法,其能够便更加精确地测量地下连续墙墙体水平位移。

为了达到上述目的,本发明的主要技术手段在于:提供一种地下连续墙墙体水平位移监测方法,包括以下步骤:S1:在地下连续墙预埋PVC测斜管的周围浇筑混凝土保护台,在混凝土保护台的顶面设置修正点;S2:在基坑开挖前使用PVC测斜管和测斜仪测量在地下连续墙墙体水平位移初始值X0,使用经纬仪测量修正点水平位移初始值Y0;S3:在施工过程中使用PVC测斜管和测斜仪测量在地下连续墙墙体不同深度的水平位移值和墙体水平位移值X(i),使用经纬仪测量修正点水平位移值Y(i),其中上标i表示测量次数,下标h表示测量数据测量处的深度;S4:求得墙体水平位移修正值P(i)=(Y(i)-Y0)-(X(i)-X0);S5:使用墙体水平位移修正值P(i)修正墙体水平位移值X(i)和墙体不同深度的水平位移值其中修正后的墙体水平位移值修正后的墙体不同深度的水平位移值其中下标p表示修正后的值。这种测量方法的益处在于可以有效解决因PVC测斜管堵塞基准点上移而造成监测数据偏差的问题,从而大大提高了围护结构地下连续墙墙体水平位移监测的精度。

本发明的进一步改进在于:使用PVC测斜管和测斜仪测量墙体水平位移初始值值X0进一步包括以下步骤:使用PVC测斜管和测斜仪测量在地下连续墙墙体不同深度的水平位移初始值对不同深度的水平位移初始值的数据采用插值法求出混凝土保护台顶面的水平位移量Z0,将Z0作为墙体水平位移初始值X0。这样改进可避免因为PVC测斜管顶端到混凝土保护台顶面的竖直距离导致的墙体水平位移值X0的测量误差。

本发明的进一步改进在于:在施工过程中使用PVC测斜管和测斜仪测量墙体水平位移值X(i)进一步包括以下步骤:使用PVC测斜管和测斜仪测量在地下连续墙墙体不同深度的水平位移值对不同深度的水平位移值的数据采用插值法求出混凝土保护台顶面的水平位移量Z(i),将Z(i)作为墙体水平位移值X(i)

本发明的进一步改进在于:PVC测斜管的下端深入地下连续墙墙体底部,PVC测斜管的上端高出地下连续墙墙顶。

附图说明

图1为本发明地下连续墙墙体水平位移监测方法中地下连续墙墙体未变形时的视图;

图2为本发明地下连续墙墙体水平位移监测方法中地下连续墙墙体变形前和变形后的对比图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的实施例做详细介绍。

参考图1,制作地下连续墙1的钢筋笼时将PVC测斜管2绑扎于钢筋笼中,PVC测斜管2的下端深入墙体底部且上端高出墙顶。待后浇筑混凝土形成地下连续墙1和预埋PVC测斜管2,PVC测斜管2的选型、绑扎质量及接头密封处理应符合《建筑基坑工程监测技术规范》(GB50497-2009)的要求。。在预埋PVC测斜管2周边的墙顶植入钢筋并浇筑500×500×500mm的PVC测斜管混凝土保护台4,植筋按照《混凝土结构加固设计规范》(GB50367-2006)中关于植筋的相关要求执行,同时按照《工程测量规范》(GB50026-2007)的要求在墙体混凝土保护台4的顶面设置修正点5。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国建筑第八工程局有限公司,未经中国建筑第八工程局有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310447112.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top