[发明专利]低硅铝比Kenyaite及其制备方法

权利要求书

1.一种低硅铝比Kenyaite材料，包含如下以摩尔比表示的化学组成：SiO₂:nAl₂O₃，其中0.01≤n≤0.25。

2.根据权利要求1所述低硅铝比的Kenyaite材料，其特征在于低硅铝比的Kenyaite材料中0.02≤n≤0.20。

3.权利要求1所述的低硅铝比kenyaite材料的制备方法，包括如下几个步骤：

a) 将含硼的Kenyaite、铝盐、和水按照B₂O₃:（0.1~6）Al₂O₃: (10~1000)H₂O的摩尔配比均匀混合制得混合物；

b) 将上述混合物在室温~200℃下水热晶化1~80小时；得到低硅铝比的Kenyaite材料。

4.根据权利要求3所述的低硅铝比Kenyaite的制备方法，其特征在于铝盐为硝酸铝，硫酸铝和氯化铝中的至少一种。

5.根据权利要求3所述的低硅铝比Kenyaite的制备方法，其特征在于混合物的摩尔配比为B₂O₃:（0.2~4）Al₂O₃: (50~500)H₂O。

6.根据权利要求3所述的低硅铝比Kenyaite的制备方法，其特征在于晶化温度为室温~180℃，晶化时间为2~60小时。

7.根据权利要求3所述的低硅铝比Kenyaite的制备方法，其特征在于含硼的Kenyaite的制备方法包括下列几个步骤：

a) 按照10SiO₂:（0.1~2）B₂O3:（0.4~2.4）碱性物质A: (0.05~5) 有机物R:（0.05~5）碱金属盐S: (85~500)H₂O的摩尔配比，将硅源、硼源，碱性物质A，有机物R，碱金属盐S和水均匀混合制得混合物；

b) 将上述混合物在150~210℃下水热晶化12~160小时得到固体产物；

c) 将固体产物进行洗涤、分离和干燥；得到含硼的Kenyaite材料；

其中硅源选自硅溶胶，固体硅胶，气相白炭黑，无定形二氧化硅或有机硅脂中的至少一种；硼源为选自硼酸和硼酸钠中的至少一种；碱性物质A为选自氧化锂，氧化钠、氧化钾、氧化铯，氢氧化锂，氢氧化钠，氢氧化钾，氢氧化铷和氢氧化铯中的至少一种；碱金属盐S选自碱金属元素的草酸盐、硫酸盐、乙酸盐、硝酸盐、碳酸盐，磷酸盐和卤化物中的至少一种。

8.根据权利要求3所述的低硅铝比Kenyaite的制备方法，其特征在于含硼的Kenyaite的制备方法中混合物的摩尔配比为10SiO₂:（0.2~2）B2O3:（0.5~2.0）碱性物质A: (1.0~5.0) 有机物R:（1.0~5.0）碱金属盐S: (100~400)H₂O。

9.根据权利要求3所述的低硅铝比Kenyaite的制备方法，其特征在于含硼的Kenyaite的制备方法中混合物在155~195℃下，水热晶化16~120小时。

10.根据权利要求3所述的低硅铝比Kenyaite的制备方法，其特征在于含硼的Kenyaite的制备方法中有机物R为平均分子量介于200至1000之间的冠醚，聚乙二醇和多甘醇二甲醚中的至少一种。