[发明专利]一种采用真空镀膜技术制备抗菌薄膜的方法无效
| 申请号： | 201310429273.3 | 申请日： | 2013-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN104451573A | 公开（公告）日： | 2015-03-25 |
| 发明（设计）人： | 袁萍 | 申请（专利权）人： | 无锡慧明电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市锡山区锡山*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 采用 真空镀膜 技术 制备 抗菌 薄膜 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种采用真空镀膜技术制备抗菌薄膜的方法：在室温条件下，以纯度为99.99％的银为靶材，将0.5mm厚度的聚乙烯薄膜基材固定于样品架上，采用基材在下、靶材在上的结构，再利用磁控溅射技术的溅射方式制备纳米银薄膜层，溅射过程中，采用纯度为99.99％氩气为工作气体，靶材与基材的距离为200mm，本底真空度为5×10-4Pa，薄膜厚度通过膜厚度仪来测量控制。
2.根据权利要求1所述的利用磁控溅射技术制备的医用抗菌薄膜，其特征是：在上述制作过程中，样品架以100mm／s速度移动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡慧明电子科技有限公司，未经无锡慧明电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310429273.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种生长具有锥形特征的镍薄膜的真空镀膜方法
- 下一篇：旋风式矿石预热装置
- 同类专利
- 专利分类
