[发明专利]褪膜剂及使用该褪膜剂的ITO玻璃的褪膜方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种褪膜剂及使用该褪膜剂的ITO玻璃的褪膜方法。 

背景技术

ITO玻璃具有良好透明导电性能，具有禁带宽、可见光区域光透射率高和电阻率低等优点，从而广泛的应用于平板显示器件、太阳能电池及其他光电器件中。ITO玻璃是在玻璃基板表面通过磁控溅射等方法沉积一层氧化铟锡（ITO）层制成。当ITO层达不到要求或者出现瑕疵的时候，就要将ITO玻璃的ITO层除去。 

目前，一般都采用抛光的方法除去ITO层，通过打磨除去ITO层。然而，通过抛光打磨除去ITO层时，容易导致ITO玻璃的玻璃基板破碎。 

发明内容

基于此，有必要提供一种可除去ITO玻璃的ITO层且可避免玻璃基板破碎的褪膜剂及使用该褪膜剂的ITO玻璃的褪膜方法。 

一种褪膜剂，按照质量百分含量计包括如下组分： 

42%～45%的有机酸，33%～38%的非离子表面活性剂，0.8%～1.2%的金属缓冲剂及15.8%～24.2%的水。 

在优选的实施例中，所述有机酸为有机羧酸。 

在优选的实施例中，所述非离子表面活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚。 

在优选的实施例中，所述金属缓冲剂为苯骈三氮唑。 

一种ITO玻璃的褪膜方法，包括以下步骤： 

使用上述的褪膜剂除去ITO玻璃的ITO层得到玻璃基板； 

干燥所述玻璃基板； 

清洗所述玻璃基板；及 

风干所述玻璃基板。 

在优选的实施例中，所述ITO玻璃在使用所述褪膜剂除去ITO层之前还包括步骤： 

清洗所述ITO玻璃以除去所述ITO玻璃表面的污垢；及 

干燥所述ITO玻璃。 

在优选的实施例中，清洗所述ITO玻璃时先使用水喷淋所述ITO玻璃，再使用滚刷清洗所述ITO玻璃。 

在优选的实施例中，使用所述褪膜剂除去ITO玻璃的ITO层时，依次使用滚刷及盘刷清理所述ITO玻璃以除去ITO层。 

在优选的实施例中，清洗所述玻璃基板时依次包括以下步骤： 

使用水及盘刷对玻璃基板进行清洗； 

使用水及滚刷对玻璃基板进行清洗； 

使用水对所述玻璃基板进行高压喷淋； 

使用水对所述玻璃基板进行二流体喷淋； 

使用超纯水对所述玻璃基板进行超纯水喷淋；及 

使用超纯水对所述玻璃基板进行超纯水洗涤。 

在优选的实施例中，风干所述玻璃基板时依次使用热风刀及冷风刀风干。 

上述褪膜剂是弱酸，对ITO层有蚀刻作用，可以除去ITO玻璃的ITO膜层；使用该褪膜剂可以除去ITO玻璃的ITO层，同时不会造成ITO玻璃的玻璃基板破碎。 

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将对本发明进行更全面的描述。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。 

一实施方式的褪膜剂，按照质量百分含量计包括如下组分： 

42%～45%的有机酸，33%～38%的非离子表面活性剂，0.8%～1.2%的金属缓冲剂及15.8%～24.2%的水。 

优选的，有机酸为有机羧酸。具体的，有机羧酸为硫代乙酸。 

优选的，非离子表面活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚。具体的，烷基酚聚氧乙烯醚为辛基酚聚氧乙烯醚。 

优选的，金属缓冲剂为苯骈三氮唑（C₆H₅N₃）。 

上述褪膜剂配制时，将有机酸、非离子表面活性剂、金属缓冲剂及水按照比例混合即可。 

上述褪膜剂是弱酸，对ITO层有蚀刻作用，可以除去ITO玻璃的ITO膜层。 

一实施方式的ITO玻璃的褪膜方法，包括以下步骤： 

步骤S110、清洗ITO玻璃以除去ITO玻璃表面的污垢。 

ITO玻璃包括玻璃基板及形成于玻璃基板表面的ITO层。 

具体在本实施方式中，清洗ITO玻璃之前先对ITO玻璃进行电阻测试。使用方块电阻仪对ITO玻璃表面进行9点测试法测试ITO玻璃的方块电阻。优选的，待褪膜的ITO玻璃的方块电阻为200欧姆～5000欧姆。电阻越低，ITO膜层越厚，越厚的膜层蚀刻较慢，时间较长。