[发明专利]一种无色差触摸屏及其生产工艺有效
| 申请号： | 201310424920.1 | 申请日： | 2013-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN103488369B | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 何晏兵;曹永祥;朱磊;朱常青 | 申请（专利权）人： | 芜湖长信科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/045 | 分类号： | G06F3/045 |
| 代理公司： | 芜湖安汇知识产权代理有限公司34107 | 代理人： | 朱圣荣 |
| 地址： | 241009 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 色差 触摸屏 及其 生产工艺 | ||
【权利要求书】：
1.一种无色差触摸屏，依次由基板玻璃（1）、ITO图层（3）、保护层（6）构成，其特征在于：所述的ITO图层（3）和保护层（6）之间设有高折射率膜（7）和低折射率膜（8），所述的低折射率膜（8）位于高折射率膜（7）和ITO图层（3）之间。
2.根据权利要求1所述的无色差触摸屏，其特征在于：所述的高折射率膜（7）为二氧化钛或五氧化二铌。
3.根据权利要求2所述的无色差触摸屏，其特征在于：所述的二氧化钛厚度为80±10埃，所述的五氧化二铌厚度为95±10埃。
4.根据权利要求1、2或3所述的无色差触摸屏，其特征在于：所述的低折射率膜（8）为二氧化硅。
5.根据权利要求4所述的无色差触摸屏，其特征在于：所述的低折射率膜（8）厚度为350±50埃。
6.根据权利要求5所述的无色差触摸屏，其特征在于：所述的ITO图层（3）厚度为1000埃以上。
7.根据权利要求6所述的无色差触摸屏，其特征在于：所述的基板玻璃（1）厚度为0.4-2.0mm。
8.一种无色差触摸屏生产工艺，其特征在于：
基板玻璃（1）采用浮法工艺处理；
在基板玻璃（1）浮法面采用真空磁控溅射方法依次镀制高折射率膜（7）、低折射率膜（8）和ITO层；
将ITO层制成ITO图层（3）；
在ITO图层（3）上制作一层保护层（6）。
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