[发明专利]一种离子液体中直接电沉积晶态纳米晶无微裂纹铬镀层的方法无效
| 申请号： | 201310424333.2 | 申请日： | 2013-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN103484900A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 何新快;吴璐烨;侯柏龙 | 申请（专利权）人： | 湖南工业大学 |
| 主分类号： | C25D3/06 | 分类号： | C25D3/06;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 412007 湖南省株洲市天元*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 离子 液体 直接 沉积 晶态 纳米 晶无微 裂纹 镀层 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种离子液体直接电沉积晶态纳米晶无微裂纹铬镀层的方法，包括离子液体镀液的配制、电沉积技术工艺。
2.根据权利要求1所述的镀液为：Cr3+ 0.1-1.0 mol·L-1，溶剂为溴化1-丁基-3-甲基咪唑([BMIM]Br)离子液体。
3.根据权利要求1所述的离子液体镀液的配制，其特征在于：配制镀液前，CrCl3·6H2O或Cr2(SO4) 3需在50-95℃温度下干燥至恒重，配制所得溶液需静置反应4-72 h小时后即得待用的离子液体镀液。
4.根据权利要求1所述的电沉积技术工艺：被镀件为阴极，阳极为不溶性电极，镀液温度为15-90℃, 阴极电流密度0.2-20.0 mA·cm-2，极间距 0.5-50cm。
5.根据权利要求1所述的一种离子液体电沉积金属铬的方法，其特征在于：阴极为经过常规预处理的金属或金属合金（如铜及铜合金、碳钢、不锈钢、锌及锌合金）。
6.根据权利要求1所述的一种离子液体电沉积金属铬的方法，其特征在于：阳极为不溶性石墨或铂或铂合金。
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