[发明专利]一种用于镭射证卡的镭射涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种用于镭射证卡的镭射涂层，其特征在于：所述镭射涂层所需的各原料组分及重量份数分别为：

2.根据权利要求1所述的用于镭射证卡的镭射涂层，其特征在于：所述二官能团异氰酸酯为异佛尔酮二异氰酸酯或六次甲基二异氰酸酯。

3.根据权利要求1所述的用于镭射证卡的镭射涂层，其特征在于：所述大分子二元醇任选自分子量为4000～7000的聚1，6-己二酸-1，4-丁二醇酯二元醇、数均分子量为4000～7000的聚己内酯二元醇、数均分子量为4000～7000的聚1，6-己二醇酯二元醇中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的用于镭射证卡的镭射涂层，其特征在于：所述扩链剂为二羟甲基丙酸或二羟甲基丁酸。

5.根据权利要求1所述的用于镭射证卡的镭射涂层，其特征在于：所述溶剂为丁酮、乙酸乙酯或碳酸二甲酯。

6.根据权利要求1所述的用于镭射证卡的镭射涂层，其特征在于：所述中和剂为三乙胺或氨基磺酸。

7.根据权利要求1所述的用于镭射证卡的镭射涂层，其特征在于：所述催化剂为二月桂酸二丁基锡或三乙醇胺。

8.一种制备如权利要求1所述的用于证卡的镭射涂层的方法，其特征在于：所述镭射涂层的制备方法步骤是：

⑴将三官能团异氰酸酯、二官能团异氰酸酯、大分子二元醇、扩链剂、溶剂和催化剂加入至装有温度计、搅拌器和回流冷凝器的反应容器中，混合均匀，在惰性气体环境下控温70～85℃，反应2～4小时；

⑵向反应容器加入甲基丙烯酸羟乙酯和丙烯酸-2羟基丙酯，控温65～80℃，反应1～3小时，然后降温到20～50℃，加入中和剂，反应10～30分钟，得到预聚体；

⑶将预聚体倒入去离子水中进行乳化分散，然后减压蒸馏除去溶剂后，即得到证卡用镭射保护膜涂层。

9.根据权利要求1～7任一权利要求所述的用于镭射证卡的镭射涂层，其特征在于：将所述镭射涂层局部或全部涂覆在基材上即得镭射保护膜，所述镭射保护膜的制备方法步骤为：⑴采用网纹涂布工艺将镭射涂层涂布到基材上，涂布厚度为0.01～0.02mm，在50～70℃的温度下烘干，烘干时间为50～80秒，收卷；

⑵然后用模压机在镭射涂层上进行局部或满版模压镭射图案，模压温度150～170℃，时间为0.5～1.5秒，即得具有镭射图案的证卡保护膜。

10.根据权利要求9所述的用于镭射证卡的镭射涂层，其特征在于：所述基材是由聚氯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯制备而成。1、一种磁条保护膜卷材，由基材和磁条组成，其特征在于：所述基材为卷状，在基材外表面径向间隔裱合多个磁条，每个磁条长度与基材长度相同，所述基材宽度为210mm，所述基材厚度为100μm。