[发明专利]一种同时测量高反镜S和P偏振光反射率的方法有效

专利信息
申请号: 201310413019.4 申请日: 2013-09-11
公开(公告)号: CN103471815A 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 李斌成;祖鸿宇;韩艳玲 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 杨学明;顾炜
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 同时 测量 高反镜 偏振光 反射率 方法
【权利要求书】:

1.一种同时测量高反镜S和P偏振光反射率的方法,其特征在于其实现步骤如下:

步骤(1)、将光强周期调制的连续激光入射到初始光学谐振腔;

所述初始光学谐振腔由两块相同的平凹高反镜凹面相对垂直于光轴放置组成,入射光从第一块平凹高反镜中心透过后垂直入射到第二块平凹高反镜;

或初始光学谐振腔由两块相同的平凹高反镜和一块平面高反镜构成,平面高反镜为入射腔镜且倾斜于光轴放置,入射激光束从该平面高反镜透射后垂直入射到垂直于光轴放置的第一块平凹高反镜,激光束被第一块平凹高反镜反射后按原路返回至平面高反镜,然后又被平面高反镜再次反射,反射光垂直入射到第二块平凹高反镜;

步骤(2)、从初始光学谐振腔透射的激光由聚焦透镜聚焦到光电探测器,光电探测器探测初始光学谐振腔的衰荡信号,当初始光学谐振腔的衰荡信号幅值超过设定阈值时,触发关断入射激光束,记录初始光学谐振腔的衰荡信号,或者在调制信号的下降沿记录初始光学谐振腔的衰荡信号,通过数据处理得到初始光学谐振腔内S和P偏振光的衰荡时间τ0S和τ0P,进而得到初始光学谐振腔各高反镜对S和P偏振光的平均反射率R0S和R0P

步骤(3)、在初始光学谐振腔内根据待测高反镜的使用角度插入待测高反镜,构成测试光学谐振腔;

所述测试光学谐振腔构成具体为:在步骤(1)所述的初始光学谐振腔的两块平凹高反镜之间插入待测高反镜,待测高反镜的入射角为高反镜的使用角度;

步骤(4)、从测试光学谐振腔透射的激光束由聚焦透镜聚焦到光电探测器,光电探测器探测衰荡信号,当测试光学谐振腔输出衰荡信号幅值超过设定阈值时,触发关断入射激光束,记录测试光学谐振腔输出的衰荡信号,或者在调制信号的下降沿记录测试光学谐振腔的衰荡信号,通过数据处理得到S和P偏振光在测试光学谐振腔内的衰荡时间τ1S和τ1P,通过计算得待测高反镜对S和P偏振光的反射率RXS和RXP。

2.根据权利要求1所述的高反镜对S和P偏振光反射率的测量方法,其特征在于:所述的步骤(2)所述的数据处理为对衰荡信号进行双指数拟合,拟合所用的衰减函数为t为时间,τ0S为初始谐振腔S偏振光衰荡时间,τ0P为初始谐振腔P偏振光衰荡时间,A0S、A0P、C0为拟合参数,分别得到初始谐振腔S和P偏振光的衰荡时间τ0S和τ0P;同样,在步骤(4)所述测试光学谐振腔情况下,由衰减函数拟合出测试光学谐振腔S和P偏振光的衰荡时间τ1S和τ1P,式中:t为时间,τ1S为测试光学谐振腔S偏振光衰荡时间,τ0P为测试光学谐振腔P偏振光衰荡时间,A1S、A1P、C1为拟合参数,根据公式计算得到待测高反镜对S和P偏振光的反射率RXS和RXP,L0为初始光学谐振腔长,L1为测试光学谐振腔长;

或在步骤(1)所述初始光学谐振腔与激光器之间加入消光比足够高的起偏器,起偏后光束呈S或P偏振态,此后固定起偏器位置,得到的衰荡信号用单指数拟合,所用的衰减函数为式中:t为时间,τ0为初始光学谐振腔衰荡时间,A、B为拟合参数,得到初始谐振腔S或P偏振光的衰荡时间τ0S或τ0P;同样,在步骤(4)所述测试光学谐振腔情况下,由衰减函数拟合出测试光学谐振腔S或P偏振光的衰荡时间τ1S或τ1P,式中:t为时间,τ1为测试光学谐振腔衰荡时间,A、B为拟合参数,根据公式计算得到待测高反镜对S或P偏振光的反射率RXS或RXP;L0为初始光学谐振腔长,L1为测试光学谐振腔长;

或所述的连续激光由偏振特性足够好的激光光源产生,衰荡信号用单指数进行拟合,所用的衰减函数为t为时间,τ0为测试光学谐振腔衰荡时间,A、B为拟合参数,得到初始谐振腔S或P偏振光的衰荡时间τ0S或τ0P;同样,在步骤(4)所述测试光学谐振腔情况下,由衰减函数t为时间,τ1为测试光学谐振腔衰荡时间,A、B为拟合参数,拟合出测试光学谐振腔S或P偏振光的衰荡时间τ1S或τ1P,根据公式L0为初始光学谐振腔长,L1为测试光学谐振腔长,计算得到待测高反镜对S或P偏振光的反射率RXS或RXP

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所,未经中国科学院光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310413019.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top