[发明专利]基板清洁装置

说明书

技术领域

本公开涉及基板清洁装置。

背景技术

在显示设备中，平坦且薄的平板显示器包括液晶显示器（LCD）、等离子显示设备、有机发光二极管（OLED）显示器等。

平板显示器包括用于显示图像的显示面板，并且为了制造显示面板，执行各种过程，例如蚀刻过程、清洁过程等。

清洁过程不是现实中制造设备的单一过程，但它影响过程产出和产品性能。

在该背景技术部分中公开的上述信息仅为了增强对本发明背景的理解，因此其可能包含不形成对于本国本领域普通技术人员来说已知的现有技术的信息。

发明内容

本发明努力提供一种基板清洁装置，其具有在清洁基板的下表面时防止液体化学物喷溅到基板的上部分的优点。

本发明的实施例提供一种基板清洁装置，包括：用于传送基板的多个传送滚筒；将液体化学物供应到所述基板的第一表面的液体化学物供给器；其中所述液体化学物供给器包括：壳体；和清洁滚筒，该清洁滚筒被能旋转地安装在所述壳体内并且具有被配置为与所述基板的上部分接触。所述基板清洁装置可进一步包括：纯净水供给器，用于将纯净水供应到所述基板的所述第一表面，被配置为去除被供应到所述第一表面的所述液体化学物，其中所述纯净水供给器包括：壳体；和清洁滚筒，该清洁滚筒被能旋转地安装在所述纯净水供给器的所述壳体内并且具有被配置为与所述基板的上部分接触。

所述基板清洁装置可进一步包括：空气供应单元，安装在所述基板的第二表面的上部分上，以便防止所述液体化学物喷溅到所述基板的所述第二表面。在一实施方式中，所述基板清洁装置可进一步包括：空气供应单元，安装在所述基板的上表面的上部分上，以便防止所述液体化学物和所述纯净水喷溅到所述基板的所述上表面。

所述液体化学物供给器和所述纯净水供给器中的每一个可进一步包括：将液体供应到所述壳体的内部的泵；和存储被供应到所述壳体的内部的液体的液体存储罐；其中所述清洁滚筒的一部分浸入被供应到所述壳体的内部的所述液体中。

所述清洁滚筒可包括圆柱形主体和位于所述圆柱形主体的外圆周表面的多个刷子。

所述基板清洁装置可进一步包括：喷溅防止构件，布置为与在比所述清洁滚筒的旋转中心轴线高的位置处所述清洁滚筒相邻，以便当用大量液体浸渍的所述清洁滚筒旋转时防止液体沿所述壳体的向上方向喷溅。

所述喷溅防止构件可被定位为低于所述基板并且高于所述清洁滚筒的所述旋转中心轴线。

所述喷溅防止构件可为被布置为与所述旋转中心轴线平行的管。

所述喷溅防止构件可被形成为在所述清洁滚筒的上部分的两侧的一对喷溅防止构件。

所述壳体的长度方向可为所述清洁滚筒的轴线延伸的方向，并且当所述清洁滚筒的所述轴线延伸的方向垂直于所述基板的传送方向时，平行于所述基板的所述传送方向的所述壳体的宽度可长于所述清洁滚筒的直径。

所述基板清洁装置可进一步包括位于所述壳体的上表面上的盖，所述盖被配置为防止所述液体随着所述清洁滚筒的旋转而被喷溅。

所述喷溅防止盖可被形成为在所述清洁滚筒的两侧的一对喷溅防止盖，并且所述清洁滚筒的上端部分可伸出到所述一对喷溅防止盖之间的开口。

所述空气供应单元可包括一对气刀，并且所述一对气刀位于所述液体化学物供给器和所述纯净水供给器中的每一个的上方。

当沿所述基板的所述传送方向观看时，所述一对气刀可位于所述清洁滚筒的前侧和后侧。

在所述一对气刀中，位于所述前侧的气刀可向所述后侧倾斜，并且位于所述后侧的气刀可向所述前侧倾斜。

当沿所述基板的所述传送方向观看时，所述纯净水供给器可位于所述液体化学物供给器的后侧。

所述纯净水供给器的数量为多个。

所述基板清洁装置可进一步包括与所述液体化学物供给器的所述壳体和/或所述纯净水供给器的所述壳体分隔开且当沿所述基板的所述传送方向观看时在所述液体化学物供给器的所述壳体和/或所述纯净水供给器的所述壳体前方的基板移动传感器。

当所述基板移动传感器检测到所述基板进入所述液体化学物供给器的所述壳体和/或所述纯净水供给器的所述壳体的上侧以及从所述液体化学物供给器的所述壳体和/或所述纯净水供给器的所述壳体的所述上侧离开时，所述清洁滚筒的速度可被可变地控制。