[发明专利]晶片位置检测装置有效
申请号: | 201310407311.5 | 申请日: | 2013-09-09 |
公开(公告)号: | CN104425304B | 公开(公告)日: | 2018-05-25 |
发明(设计)人: | 张孟湜 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/68;H01L21/687;H01L21/677 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;张天舒 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶片 相对位置关系 检测 预设标准 检测装置 晶片位置 单元检测 位置检测装置 传输过程 种晶 修正 | ||
本发明涉及一种晶片位置检测装置。其包括多个检测单元,每个检测单元用以检测其与晶片之间的相对位置关系;晶片位置检测装置根据多个检测单元与晶片的预设标准位置之间的相对位置关系,以及多个检测单元检测的多个检测单元与晶片之间的相对位置关系,判断晶片是否处于晶片的预设标准位置。本发明提供的晶片位置检测装置,其通过每个检测单元检测其与晶片之间的相对位置关系,并结合多个检测单元与晶片的预设标准位置之间的相对位置关系,可以确定晶片是否处于晶片的预设标准位置,使操作人员可以在晶片位置检测装置检测出晶片未处于晶片的预设标准位置时对晶片的位置进行修正,防止晶片在其传输过程中从机械手上脱落。
技术领域
本发明涉及半导体设备制造领域,具体地,涉及一种晶片位置检测装置。
背景技术
图1为半导体加工设备的组成示意图。如图1所示,半导体加工设备包括装载腔室1、传输腔室2及反应腔室3,其中,装载腔室1用于装载装有多个晶片的片盒,传输腔室2设置在装载腔室1和反应腔室3之间,且与二者相连通,并且传输腔室2内部设有机械手,用以在装载腔室1和反应腔室3之间传输晶片。
在机械手传输晶片的过程中,由于晶片没有被准确地放置在机械手上的指定位置和/或晶片与机械手之间产生相对运动,晶片很容易在传输过程中偏离机械手上的指定位置,使得晶片可能在传输过程中从机械手上脱落,在传输腔室2或反应腔室3中破碎,这使得需要经常打开传输腔室2和反应腔室3对其进行维护,从而降低了生产效率;此外,晶片的碎片还可能对反应腔室3内部的分子泵、门阀等器件造成破坏。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种晶片位置检测装置,其可以准确地检测装载于机械手上的晶片是否处于晶片的预设标准位置,便于操作人员在晶片偏离晶片的预设标准位置时对晶片的位置进行修正,从而防止晶片在其传输的过程中从机械手上脱落。
为实现本发明的目的而提供一种晶片位置检测装置,其包括多个检测单元,每个所述检测单元用以检测其与晶片之间的相对位置关系;所述晶片位置检测装置根据所述多个检测单元与所述晶片的预设标准位置之间的相对位置关系,以及所述多个检测单元检测的所述多个检测单元与晶片之间的相对位置关系,判断所述晶片是否处于所述晶片的预设标准位置。
其中,所述装载晶片的机械手的手部上设置有定位件,用以防止晶片向机械手的手臂方向移动,并使晶片不能在垂直于机械手的手臂的方向作直线运动;并且所述多个检测单元包括第一检测单元和第二检测单元;所述第一检测单元对应于所述晶片的预设标准位置的内部,且靠近其边缘的位置;所述第二检测单元对应于所述晶片的预设标准位置的外部,且靠近其边缘的位置;并且所述第二检测单元与所述定位件分别位于所述晶片的预设标准位置的两侧。
其中,所述第一检测单元的数量为一个,且所述第二检测单元的数量为一个;并且,所述第一检测单元、第二检测单元和所述晶片的预设标准位置的圆心不在一竖直平面内;或者所述第一检测单元的数量为多个,所述第二检测单元的数量为一个或多个;或者所述第一检测单元的数量为一个,所述第二检测单元的数量为多个。
其中,所述多个检测单元包括至少三个第一检测单元;且所述每个第一检测单元对应于所述晶片的预设标准位置的内部,且靠近其边缘的位置;并且所述晶片的预设标准位置的圆心位于所述多个第一检测单元依次连接形成的多边形内部。
其中,所述多个检测单元包括至少三个第一检测单元;且所述每个第一检测单元对应于所述晶片的预设标准位置的外部,且靠近其边缘的位置;并且所述晶片的预设标准位置的圆心位于所述多个第一检测单元依次连接形成的多边形内部。
其中,所述多个检测单元包括至少两个第一检测单元和至少一个第二检测单元;所述每个第一检测单元对应于所述晶片的预设标准位置的内部,且靠近其边缘的位置;所述每个第二检测单元对应于所述晶片的预设标准位置的外部,且靠近其边缘的位置;并且所述晶片的预设标准位置的圆心位于所述第一检测单元和第二检测单元依次连接形成的多边形外部。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造