[发明专利]反应腔室及等离子体加工设备有效
申请号: | 201310404873.4 | 申请日: | 2013-09-05 |
公开(公告)号: | CN104419910B | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
发明(设计)人: | 李红 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/46;C23C16/458;C30B25/08;C30B25/10;C30B25/12 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 彭瑞欣,张天舒 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反应 等离子体 加工 设备 | ||
1.一种反应腔室,其包括多层托盘和加热装置,其中,所述多层托盘设置在所述反应腔室内,且沿其竖直方向间隔设置,用以承载被加工工件;所述加热装置包括感应线圈和与之电连接的交流电源,用以采用感应加热的方式加热托盘,从而间接加热被加工工件,其特征在于,所述感应线圈包括主线圈和至少一个辅助线圈,其中
所述主线圈螺旋缠绕在所述反应腔室的侧壁外侧,形成对应于所述反应腔室竖直方向上不同区域的多个加热线圈分组,在每个所述反应腔室竖直方向上不同区域内包含至少一层所述托盘;
每个所述辅助线圈位于所述主线圈的外侧,并且所述辅助线圈根据所述反应腔室竖直方向上不同区域的温度需求,与对应于所述反应腔室竖直方向上相应区域的加热线圈分组并联。
2.根据权利要求1所述的反应腔室,其特征在于,所述加热装置还包括通断开关,所述通断开关的数量与所述辅助线圈的数量相对应,并且每个所述通断开关用于接通或断开所述辅助线圈和与之并联的所述加热线圈分组。
3.根据权利要求1所述的反应腔室,其特征在于,所述主线圈包括对应于所述反应腔室竖直方向上的上层区域、中间区域和下层区域的三个加热线圈分组,并且
所述辅助线圈与对应于所述反应腔室的中间区域的加热线圈分组并联。
4.根据权利要求2所述的反应腔室,其特征在于,所述加热装置还包括检测单元和控制单元,其中
所述检测单元用于分别检测位于所述反应腔室的上层区域、中间区域和下层区域内托盘的温度,并将其发送至所述控制单元;
所述控制单元用于基于所述温度判断位于所述中间区域内托盘的温度是否高于位于上层区域和/或下层区域内托盘的温度,且判断二者的温度差是否超出预定阈值,若是,则控制所述通断开关接通所述反应腔室的中间区域的加热线圈分组和与之并联的所述辅助线圈;若否,则控制所述通断开关断开所述反应腔室的中间区域的加热线圈分组和与之并联的所述辅助线圈。
5.根据权利要求1所述的反应腔室,其特征在于,对应于每个所述加热线圈分组,所述辅助线圈的数量为多个,每个所述辅助线圈与所述加热线圈分组并联,且螺旋缠绕在所述加热线圈分组的外侧,并且
多个所述辅助线圈沿着所述反应腔室的径向相互嵌套。
6.根据权利要求1所述的反应腔室,其特征在于,对应于每个所述加热线圈分组,所述辅助线圈的数量为多个,每个所述辅助线圈与所述加热线圈分组并联,并且
多个所述辅助线圈沿所述加热线圈分组的周向间隔且均匀设置。
7.根据权利要求4所述的反应腔室,其特征在于,所述检测单元的数量与所述反应腔室竖直方向上的不同区域的数量对应。
8.根据权利要求4所述的反应腔室,其特征在于,所述检测单元包括温度传感器。
9.根据权利要求4所述的反应腔室,其特征在于,所述检测单元包括热电偶。
10.一种等离子体加工设备,其包括反应腔室,其特征在于,所述反应腔室采用上述权利要求1-9任意一项所述的反应腔室。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的