[发明专利]一种磁传感装置的制备工艺在审

专利信息
申请号: 201310403912.9 申请日: 2013-09-06
公开(公告)号: CN104422908A 公开(公告)日: 2015-03-18
发明(设计)人: 张挺;万虹;王宇翔;杨鹤俊;邱鹏 申请(专利权)人: 上海矽睿科技有限公司
主分类号: G01R33/09 分类号: G01R33/09
代理公司: 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 代理人: 王松
地址: 201815 上海市嘉*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 传感 装置 制备 工艺
【权利要求书】:

1.一种磁传感装置,其特征在于,所述装置包括第三方向磁传感部件,该第三方向磁传感部件包括:

基底,其表面开有沟槽,沟槽的长度是宽度的五倍以上;

导磁单元,其主体部分设置于沟槽内,并有部分露出沟槽至基底表面,用以感应第三方向的磁信号,并将该磁信号输出到感应单元进行测量;

感应单元,设置于所述基底表面上,所述感应单元能直接测量第一方向或/和第二方向的磁场,结合导磁单元输出的磁信号,能测量被导磁单元引导到第一方向或/和第二方向的第三方向磁场;第一方向、第二方向、第三方向两两相互垂直;所述感应单元包括磁性材料层及设置于磁性材料层上的金属电极层;一个感应单元包括两个相邻的梳齿状电极,位于一个沟槽中的导磁单元与多个感应单元相配合;在感应层上方形成的梳齿状电极的间距小于一根导磁单元的长度,即一根导磁单元至少为两对梳齿状电极提供感应的磁信号;感应单元与导磁单元之间有缝隙;

绝缘层单元,设置于在磁性材料层上的部分区域、导磁单元上及沟槽内;

金属层单元,设置于沟槽内的绝缘层单元上,金属层单元是由刻蚀感应单元的金属电极时自然地在沟槽内的绝缘层上,从而形成;金属层单元用以实现自检测作用,即通过在自检测的金属上施加电流,产生垂直于基底平面的磁场,从而实现自检测;在自检测的过程中,在沟槽内的金属层单元两端施加电流,即能在沟槽侧壁上产生平行于沟槽侧壁的磁场,金属层单元两端指分别设置于沟槽的两个侧壁;而这个磁场被导磁单元送入感应单元,进而在感应单元的输出端口输出磁场信号,通过比较该磁场信号与施加电流的关系,起到对Z轴磁传感器评价、自检测的效果。

2.一种磁传感装置,其特征在于,所述装置包括第三方向磁传感部件,该第三方向磁传感部件包括:

基底,其表面开有沟槽;

导磁单元,其主体部分设置于沟槽内,并有部分露出沟槽至基底表面,用以收集第三方向的磁场信号,并将该磁信号输出到感应单元进行测量;

感应单元,设置于所述基底表面上,所述感应单元能直接测量第一方向或/和第二方向的磁场,结合导磁单元输出的磁信号,能测量被导磁单元引导到第一方向或/和第二方向的第三方向磁场;第一方向、第二方向、第三方向两两相互垂直;所述感应单元包括磁性材料层及设置于磁性材料层上的金属电极层;一个感应单元包括两个相邻的梳齿状电极,位于一个沟槽中的导磁单元与多个感应单元相配合;感应单元与导磁单元之间有缝隙;

绝缘层单元,通过在导磁单元及沟槽上沉积绝缘材料实现。

3.根据权利要求2所述的磁传感装置,其特征在于:

所述感应单元与导磁单元之间的缝隙在0到1微米之间。

4.根据权利要求2所述的磁传感装置,其特征在于:

所述感应单元与导磁单元之间的缝隙在1纳米到300纳米之间。

5.根据权利要求2所述的磁传感装置,其特征在于:

所述装置还包括金属层单元,设置于沟槽内的绝缘层单元上,用以实现自检测作用,即通过在自检测的金属上施加电流,产生垂直于基底平面的磁场,从而实现自检测,即通过在自检测的金属上施加电流,产生垂直于基底平面的磁场,从而实现自检测。

6.根据权利要求5所述的磁传感装置,其特征在于:

在自检测的过程中,在沟槽内的金属层单元两端施加电流,即能在沟槽侧壁上产生平行于沟槽侧壁的磁场,金属层单元两端指分别设置于沟槽的两个侧壁;而这个磁场被导磁单元收集、送入感应单元,进而在感应单元的输出端口输出磁场信号,通过比较该磁场信号与施加电流的关系,起到对Z轴磁传感器评价、自检测的效果。

7.根据权利要求2所述的磁传感装置,其特征在于:

所述沟槽的长度是宽度的五倍以上。

8.根据权利要求2所述的磁传感装置,其特征在于:

在感应层上方形成的梳齿状电极的间距小于一根导磁单元的长度,即一根导磁单元至少为两对梳齿状电极提供感应的磁信号。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海矽睿科技有限公司,未经上海矽睿科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310403912.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top