[发明专利]光谱测量系统

权利要求书

1.一种光谱测量系统，主要包括：

光源模组，用以产生单色光；

斩光器，用以将光源模组产生的单色光分成一参考光及一测量光两路光束；

参考样品模组，包括一参考样品池及一衰减片依次设置于所述参考光的光路上，所述参考样品池用以承载参考样品，所述衰减片用以减弱从参考样品池出射的参考光；

反射模组，设置于所述测量光的光路上，以改变测量光入射到待测样品的方向，使入射到待测样品的测量光与从待测样品出射的测量光形成一夹角；

样品池，设置于从所述反射模组出射的测量光的光路上，用以承载待测样品；以及

光电探测及处理单元，用于探测从样品池出射的测量光以及从衰减片出射的参考光，并对两束光进行处理，得到消光光谱及散射光谱。

2.如权利要求1所述的光谱测量系统，其特征在于，所述斩光器对所述单色光分光后形成的参考光及测量光的出射方向垂直。

3.如权利要求2所述的光谱测量系统，其特征在于，所述反射模组包括一第一反射镜、第二反射镜及一第三反射镜沿所述测量光的出射光路依次设置，从所述斩光器出射的测量光经过第一反射镜、第二反射镜及第三反射镜反射后，沿垂直于所述参考光的方向入射到所述样品池。

4.如权利要求3所述的光谱测量系统，其特征在于，进一步包括一偏振片设置于所述第三反射镜与样品池之间的测量光的光路上，一检偏器设置于从样品池出射的测量光的光路上，且设置于所述样品池与光电探测及处理单元之间。

5.如权利要求3所述的光谱测量系统，其特征在于，所述第一反射镜、第二反射镜为平面镜，所述第三反射镜为凹面镜。

6.如权利要求1所述的光谱测量系统，其特征在于，所述光电探测及处理单元接收的参考光及测量光位于同一数量级。

7.如权利要求1所述的光谱测量系统，其特征在于，进一步包括一吸收层设置于所述样品池表面，以吸收从待测样品表面散射的多余的散射光，所述吸收层设置于除测量光的入射方向及测量光的出射方向之外的样品池表面。

8.如权利要求1所述的光谱测量系统，其特征在于，进一步包括一第一光纤探头、第二光纤探头以及一圆形滑轨，所述样品池设置于所述圆形滑轨中心位置处，所述第一光纤探头设置于所述滑轨上，并沿所述圆形滑轨滑动，接受被待测样品散射的360°范围内的测量光并传到入光电探测及处理单元，所述第二光纤探头设置于从参考样品池出射的参考光的光路上，以接收从参考样品室池输出的参考光，并输出给光电探测及处理单元。

9.如权利要求1所述的光谱测量系统，其特征在于，所述样品池设置于一积分球中，所述积分球的内表面涂有高反射率涂层的球形壳体；所述积分球在测量光的入射方向上包括相对贯穿设置的第一通孔及第二通孔；所述积分球进一步包括一第三通孔，一第一光纤探头固定于所述积分球的第三通孔中接收从待测样品散射出来的测量光并输出给光电探测及处理单元，一第二光纤探头设置于从参考样品池出射的参考光的光路上，以接收从参考样品室池输出的参考光，并输出给光电探测及处理单元。

10.如权利要求9所述的光谱测量系统，其特征在于，所述样品池设置于第二通孔中，并接收从第一通孔入射的测量光。