[发明专利]一种新型的金属陶瓷渐变太阳能选择性吸收膜

权利要求书

1.一种太阳能选择性吸收膜层的真空镀膜工艺，其特征在于：采用磁控溅射镀膜机，设置磁控溅射镀膜机的真空度为5.0×l0^-4Pa -1.0×l0^-5Pa，选用金属铝、不锈钢、及过渡金属铬、镍、钼为靶材，通过磁控溅射镀膜机溅射气体Ar轰击靶材，磁控溅射镀膜机的脉冲功率为铝（100W）、不锈钢（90W）、过渡金属（100W），对磁控溅射镀膜机内的玻璃基片进行真空镀膜，在玻璃基片的表面镀上一层复合太阳能选择性吸收膜层。

2.根据权利要求l所述的一种太阳能选择性膜层真空镀膜工艺，其特征在于：在镀膜过程中，使用膜厚仪测量沉积在玻璃基片表面的各膜层的厚度，在各膜层的厚度达到设定值后停机，控制沉积在玻璃基片表面的各膜层的厚度而在透明玻璃基片表面形成具有选择性吸收效果的复合膜层。

3.根据权利要求2所述的一种太阳能选择性吸收膜层的真空镀膜工艺，其特征在于：铝红外减反射膜层的厚度为60nm。

4.根据权利要求2所述的一种太阳能选择性吸收膜层的真空镀膜工艺，其特征在于：AlN-SS吸收层的厚度为55nm。

5.根据权利要求2所述的一种太阳能选择性吸收膜层的真空镀膜工艺，其特征在于：过渡金属-不锈钢吸收层的厚度为55nm。

6.根据权利要求2所述的一种太阳能选择性吸收膜层的真空镀膜工艺，其特征在于：Al₂O₃减反射层的厚度为70nm。