[发明专利]一种膏体饱和浓度测量装置及其使用方法

权利要求书

1.一种膏体饱和浓度测量装置，其特征在于：测量装置包括实验底座（1）、超白滤纸（2）、滴水观测筒（3）、支撑板（4）、滤水网孔（5）、连接筒（6）、双层医用棉纱（7）、盛料筒（8）、搅拌棒（9）；实验底座（1）位于装置最底部，超白滤纸（2）铺于实验底座（1）上表面，滴水观测筒（3）压在超白滤纸（2）上方，滴水观测筒（3）底部、顶部均无盖，支撑板（4）固定于滴水观测筒（3）上部，支撑板（4）带有滤水网孔（5），连接筒（6）固定于支撑板（4）上部，双层医用棉纱（7）平铺于支撑板（4）上表面，盛料筒（8）置于连接筒（6）内部，且与连接筒（6）内壁存在间距缝隙间距为1mm～2mm，双层医用棉纱（7）多余部分通过间距缝隙延伸出来，搅拌棒（9）用来搅拌盛料筒（8）的尾砂，水分由量筒和滴定管配合添加。

2.如权利要求1所述的一种膏体饱和浓度测量装置，其特征在于：所述的滴水观测筒（3）内径范围为5cm～8cm，高为8cm～12cm。

3.如权利要求1所述的一种膏体饱和浓度测量装置，其特征在于：所述的支撑板（4）的直径与滴水观测筒（3）外径相同。

4.如权利要求1所述的一种膏体饱和浓度测量装置，其特征在于：所述的滤水网孔（5）均匀分布于支撑板（4）上，主要起到滤水作用，其孔径大小为1mm～3mm。

5.如权利要求1所述的一种膏体饱和浓度测量装置，其特征在于：所述的连接筒（6）的内径与滴水观测筒（3）保持一致，范围为5cm～8cm，连接筒（6）高度为4cm～6cm。

6.如权利要求1所述的一种膏体饱和浓度测量装置，其特征在于：所述的间距缝隙为1mm～2mm。

7.一种如权利要求1所述的膏体饱和浓度测量装置的使用方法，其特征在于：

步骤一、盛料筒内添加质量为m_s的尾砂干料，实验底座与超白滤纸总质量为m_D1。称取包括尾砂干料在内的整个装置质量为m₀，m₀不包括搅拌棒质量；

步骤二、慢加水同时搅拌，控制水分添加速度，直至滴定观测筒观察到有水滴下，称取此刻整个装置质量为m₁，整个装置质量为装置质量与尾砂质量、水质量之和，但不包括搅拌棒质量，底部结构重量为m_D2，m_D2实验底座、超白滤纸和下落水滴总质量，整个过程尾砂内加水量为m₁-m₀-(m_D2-m_D1)；

步骤三、计算测量所得的膏体饱和浓度C为：C=msms+[m1-m0-(mD2-mD1)]×100%.]]>