[发明专利]安全头盔的强化结构及其制造方法有效
| 申请号: | 201310396388.7 | 申请日: | 2013-09-03 |
| 公开(公告)号: | CN104413991B | 公开(公告)日: | 2017-09-05 |
| 发明(设计)人: | 何昌宪 | 申请(专利权)人: | 李焕玲 |
| 主分类号: | A42B3/00 | 分类号: | A42B3/00 |
| 代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司11139 | 代理人: | 孙皓晨,李林 |
| 地址: | 450000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 安全 头盔 强化 结构 及其 制造 方法 | ||
1.一种安全头盔的强化结构的制造方法,其特征在于,包括:
一作业a,提供一结构体和一缓冲发泡材料形成的帽体,共同配置在一成型模块里面,该结构体包括一连接于第二区下缘部分的环状副区;副区是一具有U形断面的结构,该缓冲发泡材料填充在该副区,使副区包覆该帽体底部;成型模块包括母模块、公模块和母模块、公模块之间界定的腔室;腔室是配置该结构体和帽体;所述的结构体定义有第一区和连接第一区的第二区;对应结构体的第一区和第二区,该帽体定义有一顶部区域和周边区域;以及
一作业b,配合加热压制作业,使帽体与该结构体复合成一整体强化型态;所述帽体和结构体的复合结构是定义为次总成;
其中,该结构体第一区和第二区的至少其中之一具有复数个壁;该壁的至少一端朝两边延伸设有延伸部,使壁形成一“T”型和倒“T”型断面结构的其中之一。
2.根据权利要求1所述的安全头盔的强化结构的制造方法,其特征在于:该作业b之后包括一作业c,提供一胶壳包覆组合该次总成,而共同形成一头盔总成。
3.根据权利要求1所述的安全头盔的强化结构的制造方法,其特征在于:该作业a包括提供一胶壳,与该结构体、帽体共同配置在成型模块的腔室里面。
4.根据权利要求1或2或3所述的安全头盔的强化结构的制造方法,其特征在于:每一个壁相互连接形成一阵列组织的蜂巢结构;并且,使壁界定出复数个相邻的立体巢目;
该立体巢目包括有该复数个壁界定形成的中空腔室,和形成在腔室两端的开口,而共同建立该立体巢目的结构。
5.根据权利要求1或2或3所述的安全头盔的强化结构的制造方法,其特征在于:该结构体第一区具有复数个壁,每一个壁相互连接形成一阵列组织的蜂巢结构;并且,使壁界定出复数个相邻的立体巢目;
该立体巢目包括有该复数个壁界定形成的中空腔室,和形成在腔室两端的开口,而共同建立该立体巢目的结构;
该结构体第二区是多数个条状物构成一阵列组织结构;所述的条状物连接该立体巢目的壁;该条状物是成U形断面的结构;以及
该立体巢目容许缓冲发泡材料穿合通过。
6.根据权利要求2或3所述的安全头盔的强化结构的制造方法,其特征在于:该胶壳上设有通气孔组合网状组织的结构。
7.根据权利要求1所述的安全头盔的强化结构的制造方法,其特征在于:该结构体位于该帽体最内层的位置。
8.一种安全头盔的强化结构的制造方法,其特征在于,包括:
一作业a,提供一结构体和一胶壳配置在一成型模块里面;该成型模块包括一母模块和一公模块;母模块和公模块之间界定有一腔室,以配置该结构体和胶壳;该结构体定义有第一区和连接第一区的第二区;以及
一作业b,供给一缓冲发泡材料注入该腔室,配合加热压制作业,使该缓冲发泡材料形成帽体包覆结构体,并且与胶壳结合成一整体复合强化型态,而共同形成一头盔总成;
其中,该结构体包括一连接于第二区下缘部分的环状副区;副区是一具有U形断面的结构;该缓冲发泡材料填充在该副区,使副区包覆该帽体底部;
该结构体第一区和第二区的至少其中之一,具有复数个壁;该壁的至少一端朝两边延伸设有延伸部,使壁形成一“T”型和倒“T”型断面结构的其中之一。
9.根据权利要求8所述的安全头盔的强化结构的制造方法,其特征在于:每一个壁相互连接形成一阵列组织的蜂巢结构;并且,使壁界定出复数个相邻的立体巢目;
该立体巢目包括有该复数个壁界定形成的中空腔室,和形成在腔室两端的开口,而共同建立该立体巢目的结构。
10.根据权利要求8所述的安全头盔的强化结构的制造方法,其特征在于:该结构体第一区具有复数个壁,每一个壁相互连接形成一阵列组织的蜂巢结构;并且,使壁界定出复数个相邻的立体巢目;
该立体巢目包括有该复数个壁界定形成的中空腔室,和形成在腔室两端的开口,而共同建立该立体巢目的结构;立体巢目容许缓冲发泡材料穿合通过;以及
该结构体第二区是多数个条状物构成一阵列组织结构;条状物是成U形断面的结构,连接该立体巢目的壁。
11.根据权利要求8所述的安全头盔的强化结构的制造方法,其特征在于:该胶壳上设有气孔组合网状组织的结构。
12.根据权利要求8所述的安全头盔的强化结构的制造方法,其特征在于:该结构体位于该帽体最内层的位置。
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